特許
J-GLOBAL ID：201903011050698208
エッチング液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小林 浩
, 杉山 共永
, 田村 恭子
, 鈴木 康仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-533951
特許番号：特許第6458913号
出願日： 2018年03月26日
要約：
【要約】 本発明は、IGZOへのダメージを抑制したエッチング液を提供する。本発明のエッチング液は、ヒドロキシエタンジホスホン酸(A)、ホスホン酸(B)、過酸化水素(C)、硝酸(D)、フッ素化合物(E)、アゾール(F)及びアルカリ(G)を含有するエッチング液であって、前記ホスホン酸(B)が、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、N,N,N’,N’-エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸及びアミノトリメチレンホスホン酸からなる群より選択される1種以上を含有し、前記ヒドロキシエタンジホスホン酸(A)の割合が0.01〜0.1質量%の範囲であり、前記ホスホン酸(B)の割合が0.003〜0.04質量%の範囲であることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ヒドロキシエタンジホスホン酸(A)、ホスホン酸(B)、過酸化水素(C)、硝酸(D)、フッ素化合物(E)、アゾール(F)及びアルカリ(G)を含有するエッチング液であって、前記ホスホン酸(B)が、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、N,N,N’,N’-エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸及びアミノトリメチレンホスホン酸からなる群より選択される1種以上を含有し、前記ヒドロキシエタンジホスホン酸(A)の割合が0.01〜0.1質量%の範囲であり、前記ホスホン酸(B)の割合が0.003〜0.04質量%の範囲であり、インジウム・ガリウム・亜鉛酸化物上に形成された銅を含有する銅層及びチタンを含有するチタン系金属層をエッチングするためのエッチング液。
IPC (2件)：
C23F 1/18 ( 200 6.01)
, H01L 21/308 ( 200 6.01)
C23F 1/18
, H01L 21/308 F
