特許

J-GLOBAL ID：201903011562447371

懸架する二次元ナノ材料の製造方法

発明者： 叢 琳 ,  趙 偉 ,  張 金 ,  蔡 裕謙 ,  姜 開利 ,  ▲ハン▼ 守善
出願人/特許権者： ツィンファ ユニバーシティ ,  鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
代理人 (1件)： TRY国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-010336
公開番号（公開出願番号）：特開2019-127434
出願日： 2019年01月24日
公開日（公表日）： 2019年08月01日
要約：

【課題】懸架する二次元ナノ材料の製造方法の提供。【解決手段】S1:第一基板101の表面に二次元ナノ材料層102を形成する。S2:カーボンナノチューブフィルム構造体103で二次元ナノ材料層102を覆う。S3:腐食溶液で第一基板101を除去し、二次元ナノ材料層102及びカーボンナノチューブフィルム構造体103からなる二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を獲得し、洗浄液に置き、洗浄する。S4:少なくとも一つのスルーホール105を有するターゲット基板104を提供し、洗浄液から複合構造体を掬い上げ、二次元ナノ材料層102をターゲット基板104と接合させ、ターゲット基板104の少なくとも一つのスルーホール105を覆う。S5:カーボンナノチューブフィルム構造体103を除去し、二次元ナノ材料層102がターゲット基板104の表面に転写されてスルーホール105の位置に懸架される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第一基板を提供して、前記第一基板の表面に二次元ナノ材料層が形成されるステップと、 カーボンナノチューブフィルム構造体で前記二次元ナノ材料層を覆うステップと、 腐食溶液で前記第一基板を除去し、前記二次元ナノ材料層及び前記カーボンナノチューブフィルム構造体からなる二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を獲得し、前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を洗浄液に置き、洗浄するステップと、 少なくとも一つのスルーホールを有するターゲット基板を提供し、前記ターゲット基板を利用し、洗浄液から前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブフィルム構造体の複合構造体を掬い上げ、前記二次元ナノ材料層を前記ターゲット基板と接合させ、前記ターゲット基板の少なくとも一つのスルーホールを覆わせるステップと、 前記カーボンナノチューブフィルム構造体を除去し、前記二次元ナノ材料層が前記ターゲット基板の表面に転写されてスルーホールの位置に懸架されるステップと、 を含むことを特徴とする懸架する二次元ナノ材料の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 32/194 ,  B82Y 40/00 ,  C01B 32/168

FI (3件)：

C01B32/194 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/168

Fターム (13件)：

4G146AA01 ,  4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AD05 ,  4G146AD17 ,  4G146BC09 ,  4G146CA16 ,  4G146CB12 ,  4G146CB19 ,  4G146CB26 ,  4G146CB29 ,  4G146CB32