特許

J-GLOBAL ID：201903011996899467

分光装置及び分光方法

発明者： 大登 正敬
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 速水 進治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-019789
公開番号（公開出願番号）：特開2019-138677
出願日： 2018年02月07日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：

【課題】干渉パターンにおける干渉縞を平行に並ばせる。【解決手段】補正されていない干渉パターンは、第1領域RG1及び第2領域RG2を有している。第1領域RG1では、干渉縞の一部分が一方向に第1ピッチp1で並んでいる。第2領域RG2は、当該一方向に直交する方向に第1領域RG1と並んでおり、第2領域RG2では、干渉縞の他の一部分が上述した一方向に第2ピッチp2で並んでいる。第2ピッチp2は、第1ピッチp1と異なっている。補正された干渉パターンでは、第1ピッチp1と第2ピッチp2の差が小さくなっている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光を第1直線偏光と、前記第1直線偏光の振動方向と直交する振動方向を有する第2直線偏光と、に分離するためのビームスプリッタと、 前記第1直線偏光及び前記第2直線偏光によって生成される干渉パターンを補正するための光学部材と、 を備え、 前記光学部材によって補正されていない前記干渉パターンは、干渉縞の一部分が一方向に第1ピッチで並ぶ第1領域と、前記一方向に直交する方向に前記第1領域と並んでおり、干渉縞の他の一部分が前記一方向に前記第1ピッチと異なる第2ピッチで並ぶ第2領域と、を有し、 前記光学部材は、前記第1ピッチと前記第2ピッチの差が小さくなるように前記干渉パターンを補正する、分光装置。

IPC (3件)：

G01J 3/447 ,  G02B 5/30 ,  G02B 27/28

FI (3件)：

G01J3/447 ,  G02B5/30 ,  G02B27/28 Z

Fターム (13件)：

2G020CA12 ,  2G020CB05 ,  2G020CC22 ,  2G020CC24 ,  2G020CC47 ,  2G020CD03 ,  2G020CD35 ,  2H149AA22 ,  2H149BA02 ,  2H149BA04 ,  2H149FC00 ,  2H199AB45 ,  2H199AB52