特許

J-GLOBAL ID：201903011999612444

偏光分離素子及びこれを用いた画像投射装置

発明者： 前田 勇樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-170086
公開番号（公開出願番号）：特開2019-066837
出願日： 2018年09月11日
公開日（公表日）： 2019年04月25日
要約：

【課題】 本発明は、偏光分離部の温度上昇を抑制しつつ、偏光分離素子による画質への影響を従来よりも抑制することが可能な偏光分離素子及びこれを用いた画像投射装置を提供することを目的とする。【解決手段】 PBS12が、第1のプリズム21と、第2のプリズム22と、第2のプリズム22と接する偏光分離膜26と、基板部23と、第1のプリズム21と基板部23との間に設けられた第1の接着剤24と、偏光分離膜26と基板部23との間に設けられた第2の接着剤25と、を備える。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

第1のプリズムと、 第2のプリズムと、 前記第2のプリズムと接する偏光分離部と、 前記偏光分離部と前記第1のプリズムとの間に設けられた基板部と、 前記第1のプリズムと前記基板部との間に設けられた第1の接着部と、 前記偏光分離部と前記基板部との間に設けられた第2の接着部と、 を備える、 ことを特徴とする偏光分離素子。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/04 ,  G03B 21/14

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02B5/04 D ,  G03B21/14 Z

Fターム (27件)：

2H042CA09 ,  2H042CA10 ,  2H042CA14 ,  2H149AA17 ,  2H149AB02 ,  2H149AB13 ,  2H149BA04 ,  2H149DA02 ,  2H149EA02 ,  2H149EA19 ,  2H149FA42Z ,  2H149FB03 ,  2H149FB04 ,  2H149FD04 ,  2H149FD08 ,  2H149FD13 ,  2H149FD28 ,  2K203FA03 ,  2K203FA24 ,  2K203FA32 ,  2K203FA34 ,  2K203FA43 ,  2K203GB25 ,  2K203GB27 ,  2K203HA35 ,  2K203MA01 ,  2K203MA12