特許
J-GLOBAL ID:201903012274909464

擁壁、擁壁の製造方法および基礎ブロック

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 今井 彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-008933
公開番号(公開出願番号):特開2019-127718
出願日: 2018年01月23日
公開日(公表日): 2019年08月01日
要約:
【課題】勾配の異なる擁壁をさらに簡単に施工できる擁壁を提供する。【解決手段】基礎ブロック21の上に積み上げされた複数の擁壁用ブロック10aを有する擁壁1cを提供する。複数の擁壁用ブロック10aの各々は、基礎または下側の他の擁壁用ブロックと接する底面部13と、上側の他の擁壁用ブロックと接する上面部12と、擁壁の表面またはその下地となる前面部11と、底面部から部分的に下側へ、または上面部から上側へ突き出た凸部15とを有し、前面部11と底面部13との間の第1の角度θ1が鋭角である。基礎ブロック21は、底面部13が水平に対して前面部11が低くなるように第2の角度θ2で傾いている。【選択図】図6
請求項(抜粋):
基礎の上に複数の擁壁用ブロックを積み上げすることを有する擁壁の製造方法であって、 前記複数の擁壁用ブロックの各々は、前記基礎または下側の他の擁壁用ブロックと接する底面部と、上側の他の擁壁用ブロックと接する上面部と、前記擁壁の表面またはその下地となる前面部と、前記底面部から部分的に下側へ、または前記上面部から上側へ突き出た凸部とを有し、前記前面部と前記底面部との間の第1の角度θ1が鋭角であり、 前記積み上げすることは、前記基礎の上に前記底面部の前方が低くなるように、水平に対し第2の角度θ2で傾けて設置することを有し、前記第1の角度θ1と前記第2の角度θ2とは以下の条件を満たす、製造方法。 0<θ1+θ2≦90
IPC (1件):
E02D 29/02
FI (2件):
E02D29/02 302 ,  E02D29/02 304
Fターム (2件):
2D048AA03 ,  2D048AA13
引用特許:
審査官引用 (4件)
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