特許

J-GLOBAL ID：201903012874739325

パターン精度検出装置及び加工システム

発明者： 笠 健太郎 ,  福原 和也 ,  石行 一貴 ,  高桑 真歩 ,  萩尾 義知 ,  瀬川 一宏 ,  村阪 友規 ,  釘宮 哲也 ,  山寄 優 ,  岡本 陽介
出願人/特許権者： 東芝メモリ株式会社
代理人 (1件)： 日向寺 雅彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-052906
公開番号（公開出願番号）：特開2017-167000
特許番号：特許第6462614号
出願日： 2016年03月16日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板の第1状態における第1反り及び前記基板の第2状態における第2反りを検出する反り検出部であって、前記第1状態において前記基板の第1面の上に第1パターンを有する第1膜が設けられ、前記第2状態において前記第1面の上に第2パターンを有する第2膜が設けられた、前記反り検出部と、 前記第1反りに関する第1情報、前記第2反りに関する第2情報、前記第1面に前記第1膜が設けられ前記第1反りとは異なる反りの第3状態における前記第1パターンの前記第1面内の位置に関する第3情報、及び、前記第1面に前記第2膜が設けられ前記第2反りとは異なる反りの第4状態における前記第2パターンの前記第1面内の位置に関する第4情報に基づいて、前記第2状態における、前記第1パターンの前記第1面内の前記位置と前記第2パターンの前記第1面内の前記位置との差に応じた値を導出する処理部と、 備えたパターン精度検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ( 200 6.01) ,  H05K 3/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/66 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G01B 11/24 M ,  H05K 3/00 Q ,  H05K 3/00 L ,  H01L 21/66 K