特許

J-GLOBAL ID：201903013194929207

プラズマ処理装置

発明者： 山澤 陽平 ,  古屋 敦城
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-007909
公開番号（公開出願番号）：特開2017-130305
特許番号：特許第6584329号
出願日： 2016年01月19日
公開日（公表日）： 2017年07月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 高周波電力を供給する高周波電源と、 前記高周波電力により、内部にてプラズマが形成される処理容器と、 前記高周波電源と前記処理容器との間に設けられ、電気的な基点となる接続部と、 前記接続部にて前記処理容器と並列に接続され、前記接続部からプラズマ側を見た際の負荷インピーダンスの変動を抑制する負荷変動安定化回路と、 を有するプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  C23C 16/509 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H05H 1/46 R ,  H01L 21/31 C ,  C23C 16/509