特許
J-GLOBAL ID：201903013242646174
コバルト酸リチウム焼結体及び該焼結体を用いて作製されるスパッタリングターゲット及びコバルト酸リチウム焼結体の製造方法並びにコバルト酸リチウムからなる薄膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小越 一輝
, 小越 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-157151
公開番号（公開出願番号）：特開2019-014970
出願日： 2018年08月24日
公開日（公表日）： 2019年01月31日
要約：
【課題】強度が高く、安定したスパッタが可能なスパッタリングターゲット、その製造に用いるコバルト酸リチウム焼結体、及びそれらの製造方法並びに薄膜の提供。【解決手段】コバルト酸リチウムスラリーをスプレードライして平均粒径20〜150μmの造粒粉を作製し、得られた造粒粉を用いてコールドプレス及び/又はCIPにより成型した成型体を、酸素を99vol%以上含む雰囲気中で1000〜1100°Cで焼結することによって製造したコバルト酸リチウム焼結体であって、曲げ強さが100MPa以上、バルク抵抗の平均値が100Ω・cm以下、相対密度が90%以上、かつ円筒形状であるコバルト酸リチウム焼結体。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
曲げ強さが100MPa以上であることを特徴とするコバルト酸リチウム焼結体。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C14/34 A
, C23C14/34 B
, C04B35/01
4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC13
, 4K029DC24
, 4K029DC34
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050FA14
, 5H050GA24
