特許

J-GLOBAL ID：201903013572225701

プラズマ処理装置及びプラズマ処理用反応容器の構造

発明者： 吉村 俊秋 ,  箕輪 裕之 ,  石 龍基
出願人/特許権者： コアテクノロジー株式会社 ,  株式会社アスカギ
代理人 (2件)： 松尾 憲一郎 ,  市川 泰央
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016056684
公開番号（公開出願番号）：WO2017-149739
出願日： 2016年03月03日
公開日（公表日）： 2017年09月08日
要約：

プラズマ処理による膜形成の面内均一性を向上させる。 電極板とシャワー板との間に導入されたプロセスガスをシャワー板に形成された複数の小孔を通して対向電極に向けて排出するべく構成されたプラズマ処理装置であって、前記シャワー板と略平行に配設された複数の小孔を有する拡散板を前記電極板と前記シャワー板の間に備え、前記プロセスガスは前記電極板と前記拡散板の間に導入され、前記拡散板の複数の小孔を順に通って前記シャワー板に到達して前記シャワー板の複数の小孔から前記対向電極に向けて流出し、前記拡散板と前記シャワー板に形成された複数の小孔は、前記プロセスガスの流通方向の下流の板ほど小径であり、各板の開口率は前記プロセスガスの流通方向の上流の板ほど小さい、ことを特徴とするプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

電極板とシャワー板との間に導入されたプロセスガスをシャワー板に形成された複数の小孔を通して対向電極に向けて排出するべく構成されたプラズマ処理装置であって、 前記シャワー板と略平行に配設された複数の小孔を有する拡散板を前記電極板と前記シャワー板の間に備え、 前記プロセスガスは前記電極板と前記拡散板の間に導入され、前記拡散板の複数の小孔を順に通って前記シャワー板に到達して前記シャワー板の複数の小孔から前記対向電極に向けて流出し、 前記拡散板と前記シャワー板に形成された複数の小孔は、前記プロセスガスの流通方向の下流の板ほど小径であり、各板の開口率は前記プロセスガスの流通方向の上流の板ほど小さい、ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

C23C 16/455 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 M

Fターム (44件)：

2G084AA04 ,  2G084BB05 ,  2G084BB13 ,  2G084BB14 ,  2G084BB27 ,  2G084CC03 ,  2G084CC04 ,  2G084CC05 ,  2G084CC12 ,  2G084CC21 ,  2G084CC33 ,  2G084DD02 ,  2G084DD15 ,  2G084DD23 ,  2G084DD32 ,  2G084DD42 ,  2G084DD43 ,  2G084DD55 ,  2G084DD65 ,  2G084DD67 ,  2G084FF15 ,  2G084FF21 ,  2G084FF23 ,  2G084FF39 ,  2G084FF40 ,  4K030CA17 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA30 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045DQ15 ,  5F045DQ17 ,  5F045EF05 ,  5F045EF07 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EK07