特許
J-GLOBAL ID：201903013577073632

基板処理装置及び半導体装置の製造方法

発明者：
相澤 聡

相澤 聡 について

, 
岩城 洋人

岩城 洋人 について


出願人/特許権者：
株式会社KOKUSAI ELECTRIC

株式会社KOKUSAI ELECTRIC について


代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-156519
公開番号（公開出願番号）：特開2019-062191
出願日： 2018年08月23日
公開日（公表日）： 2019年04月18日
要約：
【課題】ポッド蓋開閉時に、パーティクルがウエハ上に付着するのを防止する基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置100は、基板が収納される基板収容器110を載置する載置部と、基板収容器の蓋120が開閉される蓋開閉空間を構成するガイド部121と、蓋開閉空間を基板収容器と基板が保持される基板保持具217との間で基板を搬送する移載室から分離するゲート部と、蓋開閉空間に設けられ、基板収容器の蓋を開閉する蓋開閉機構と、載置部に載置された基板収容器にガスを導入するガス導入機構と、該ガス導入機構にガスを基板収容器に導入させ、基板収容器内のガスを置換するとともに圧力を調整する監視部と、該監視部に蓋開閉空間の圧力よりも基板収容器内の圧力を高く維持させつつ、蓋開閉機構に基板収容器の蓋を開かせるように構成されている制御部と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板が収納される基板収容器を載置する載置部と、前記基板収容器の蓋が開閉される蓋開閉空間を構成するガイド部と、前記蓋開閉空間を前記基板収容器と前記基板が保持される基板保持具との間で前記基板を搬送する移載室から分離するゲート部と、前記蓋開閉空間に設けられ、前記基板収容器の前記蓋を開閉する蓋開閉機構と、前記載置部に載置された基板収容器にガスを導入するガス導入機構と、該ガス導入機構に前記ガスを前記基板収容器に導入させ、前記基板収容器内のガスを置換するとともに圧力を調整する監視部と、該監視部に前記蓋開閉空間の圧力よりも前記基板収容器内の圧力を高く維持させつつ、前記蓋開閉機構に前記基板収容器の蓋を開かせるように構成されている制御部と、を備えた基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/02 Z
Fターム (40件)：
5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC15 ,  5F045AF03 ,  5F045BB15 ,  5F045CA15 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB12 ,  5F045EK06 ,  5F045EN02 ,  5F045EN05 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131BA02 ,  5F131BA04 ,  5F131CA12 ,  5F131DA05 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA37 ,  5F131DA42 ,  5F131DA43 ,  5F131DB03 ,  5F131DB52 ,  5F131DB62 ,  5F131GA14 ,  5F131GA88 ,  5F131GA92 ,  5F131GB12 ,  5F131GB23 ,  5F131JA04 ,  5F131JA16 ,  5F131JA24 ,  5F131JA34 ,  5F131JA40 ,  5F131KA06 ,  5F131KA22 ,  5F131KA54
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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