特許
J-GLOBAL ID：201903013588134277
蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および有機半導体素子の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
奥田 誠司
, 喜多 修市
, 山下 亮司
, 三宅 章子
, 村瀬 成康
, 北 倫子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-505219
特許番号：特許第6461423号
出願日： 2016年07月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 複数の第1開口部を有する高分子を含むベースフィルムと、
前記ベースフィルム上に形成された、中実部と非中実部とを有する複合磁性体層と、
前記ベースフィルムの周縁部に接合されたフレームとを有し、
前記複数の第1開口部は、前記非中実部に対応する領域に形成されており、前記複合磁性体層は、平均粒径が500nm未満のソフトフェライトの粉末と樹脂とを含み、
前記中実部は、離散的に配置された複数の島状部を含む、蒸着マスク。
IPC (4件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
C23C 14/04 A
, C23C 14/24 G
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
