特許

J-GLOBAL ID：201903013842182112

多孔質パッド、真空チャック装置及び工作機械

発明者： ▲高▼田 篤 ,  ▲高▼田 久寿 ,  大橋 恭介
出願人/特許権者： 株式会社ナノテム
代理人 (4件)： 木村 満 ,  小林 悠太 ,  白井 健朗 ,  森川 泰司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-055695
公開番号（公開出願番号）：特開2019-169590
出願日： 2018年03月23日
公開日（公表日）： 2019年10月03日
要約：

【課題】吸着力の低下を抑制できる多孔質パッド、真空チャック装置及び工作機械を提供する。【解決手段】多孔質パッド20は、複数の気孔が形成されることにより流体を通過させる通気性を有する多孔質セラミック部25と、流体を通過させない材質により多孔質セラミック部25の厚さ方向に延びる筒状に形成され、設置対象物の一例であるワークWが設置される多孔質パッド20の設置面20aに沿って並ぶ複数の筒部28と、を備える。複数の筒部28は、それぞれ、内部に多孔質セラミック部25が充填された状態で厚さ方向に沿って流体の一例であるクーラント液の通過が可能となる流通許容室29を有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

複数の気孔が形成されることにより流体を通過させる通気性を有する多孔質セラミック部と、 流体を通過させない材質により前記多孔質セラミック部の厚さ方向に延びる筒状に形成され、設置対象物が設置される設置面に沿って並ぶ複数の筒部と、を備え、 前記複数の筒部は、それぞれ、内部に前記多孔質セラミック部が充填された状態で前記厚さ方向に沿って流体の通過が可能となる流通許容室を有する、 多孔質パッド。

IPC (3件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/304 ,  B23Q 3/08

FI (3件)：

H01L21/68 P ,  H01L21/304 622H ,  B23Q3/08 A

Fターム (30件)：

3C016DA05 ,  5F057AA31 ,  5F057BA11 ,  5F057CA11 ,  5F057DA01 ,  5F057DA14 ,  5F057FA13 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA13 ,  5F131AA21 ,  5F131AA22 ,  5F131AA23 ,  5F131AA32 ,  5F131AA33 ,  5F131AA34 ,  5F131BA32 ,  5F131BA43 ,  5F131DA02 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131EA05 ,  5F131EA06 ,  5F131EB01 ,  5F131EB03 ,  5F131EB54 ,  5F131EB56 ,  5F131EB58 ,  5F131EB78 ,  5F131EB81