特許

J-GLOBAL ID：201903014339890874

薄い無機膜の生成方法

発明者： アダーマン,トルベン ,  レッフラー,ダニエル ,  ヴィルマー,ハーゲン ,  シールレ-アルント,ケルシュティン ,  ゲルケンス,ヤン ,  フォルクマン,クリスティアン ,  シュナイダー,スフェン
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-529034
公開番号（公開出願番号）：特表2019-500495
出願日： 2016年11月30日
公開日（公表日）： 2019年01月10日
要約：

【課題】薄い無機膜の生成方法を提供する。【解決手段】 本発明は、基材上に薄い無機膜を生成するための方法、特に原子層堆積方法の分野に関する。本発明は、一般式(I)の化合物を、気体状態又はエアロゾル状態にすること、 【化1】(式中、 Mは、Mn、Ni又はCoであり、 Xは、Mに配位する配位子であり、 nは、0、1、又は2であり、 R1、R2は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はシリル基であり、 mは、1、2又は3であり、 R3、R4及びR5は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はアリールオキシ基であり、並びに pは1、2又は3である。) 及び、一般式(I)の化合物を気体状態又はエアロゾル状態から固体基材上に堆積させることを含むことを特徴とする方法に関する。

請求項（抜粋）：

一般式(I)の化合物を、気体状態又はエアロゾル状態にすること、

IPC (2件)：

C23C 16/18 ,  C07F 19/00

FI (2件)：

C23C16/18 ,  C07F19/00

Fターム (42件)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ80 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VU31 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB80 ,  4H050WA29 ,  4H050WB16 ,  4H050WB18 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA01 ,  4K030BA05 ,  4K030BA14 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030HA01 ,  4K030LA12 ,  5F058BB01 ,  5F058BB05 ,  5F058BB06 ,  5F058BB10 ,  5F058BC02 ,  5F058BC03 ,  5F058BC09 ,  5F058BF02 ,  5F058BF07 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BF36 ,  5F058BF37 ,  5F058BF43 ,  5F058BJ02 ,  5F058BJ03