特許

J-GLOBAL ID：201903015102586905

不飽和ニトリルの製造方法

発明者： 田村 翔 ,  永田 大
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018019460
公開番号（公開出願番号）：WO2019-008924
出願日： 2018年05月21日
公開日（公表日）： 2019年01月10日
要約：

流動床反応器を用い、触媒の存在下、炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する反応工程を有し、 該反応工程において、サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、下部空間における触媒の存在量に対する上部空間における触媒の存在量の比が、0.05〜0.45である、不飽和ニトリルの製造方法。

請求項（抜粋）：

触媒が流動可能に収納された内部空間と、前記内部空間に炭化水素を含む原料ガスを供給する原料供給口と、前記内部空間に酸素を含む酸素含有ガスを供給する分散板と、前記内部空間から反応生成ガスを排出する排出口と、前記内部空間内で反応生成ガスから触媒を分離回収するサイクロンとを有する流動床反応器を用い、前記内部空間内で、触媒の存在下、前記炭化水素を気相接触アンモ酸化反応に供することにより対応する不飽和ニトリルを製造する反応工程を有し、 該反応工程において、前記内部空間を前記サイクロンの入口上端から内部空間の上端までの空間を占める上部空間と、前記サイクロンの入口上端より低く分散板までの空間を占める下部空間との2つの空間に分けた時に、前記下部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量に対する前記上部空間における単位体積当たりの前記触媒の存在量の比が、0.05〜0.45である、 不飽和ニトリルの製造方法。

IPC (2件)：

C07C 253/24 ,  C07C 255/08

FI (2件)：

C07C253/24 ,  C07C255/08

Fターム (18件)：

4H006AA02 ,  4H006AC54 ,  4H006BA08 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA30 ,  4H006BC18 ,  4H006BC37 ,  4H006BE14 ,  4H006BE30 ,  4H006QN24 ,  4H039CA70 ,  4H039CC10 ,  4H039CD10 ,  4H039CD90 ,  4H039CE30 ,  4H039CE50