特許

J-GLOBAL ID：201903015271582200

粒子線照射システムおよび照射計画装置

発明者： 梅垣 菊男 ,  藤井 祐介 ,  藤本 林太郎 ,  宮本 直樹 ,  平山 嵩祐 ,  清水 伸一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (1件)： 特許業務法人開知国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-028532
公開番号（公開出願番号）：特開2019-141331
出願日： 2018年02月21日
公開日（公表日）： 2019年08月29日
要約：

【課題】計画通りの線量分布を形成することができ、かつ従来の手法に比べて照射時間を短縮することが可能な、スキャニング照射法による粒子線照射システムを提供する。【解決手段】標的26の位置を計測する標的監視装置35,36と、標的監視装置からの信号に基づき走査電磁石31,32の励磁電流値を補正して荷電粒子ビームを標的26に照射する追尾照射、および標的監視装置からの信号に基づき標的26の深さを演算し、標的26の深さが予め定めた深さ許可範囲内にあるとき荷電粒子ビームを照射するゲート照射を行う制御システム7と、を備え、制御システム7は、標的監視装置によって計測した標的26の深さが深さ許可範囲内にあるときに追尾照射を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを生成して出射する加速器と、 前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有しており、前記荷電粒子ビームを標的に照射する照射装置と、 前記標的の位置を計測する標的監視装置と、 前記標的監視装置からの信号に基づき前記走査電磁石の励磁電流値を補正して前記荷電粒子ビームを前記標的に照射する追尾照射、および前記標的監視装置からの信号に基づき前記標的の深さを演算し、前記標的の深さが予め定めた深さ許可範囲内にあるとき前記荷電粒子ビームを照射するゲート照射を行う制御装置と、を備え、 前記制御装置は、前記標的監視装置によって計測した前記標的の深さが前記深さ許可範囲内にあるときに前記追尾照射を行う ことを特徴とする粒子線照射システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 H ,  A61N5/10 P

Fターム (7件)：

4C082AC05 ,  4C082AE02 ,  4C082AG13 ,  4C082AJ08 ,  4C082AN02 ,  4C082AP07 ,  4C082AP08