特許

J-GLOBAL ID：201903016690667653

反射型マスクブランク、反射型マスク及び反射型マスクブランクの製造方法

発明者： 田邊 容由
出願人/特許権者： AGC株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-112600
公開番号（公開出願番号）：特開2019-056898
出願日： 2018年06月13日
公開日（公表日）： 2019年04月11日
要約：

【課題】反射型マスクの製造時の洗浄耐性に優れる吸収層を備える反射型マスクブランクを提供する。【解決手段】反射型マスクブランク10Aは、基板11上に、EUV光を反射する反射層12と、EUV光を吸収する吸収層14とを基板側からこの順に有する反射型マスクブランクであって、吸収層14は、Snを主成分として含有し、かつTaを25at%以上含有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に、EUV光を反射する反射層と、EUV光を吸収する吸収層とを基板側からこの順に有する反射型マスクブランクであって、 前記吸収層は、Snを主成分として含有し、かつTaを25at%以上含有する反射型マスクブランク。

IPC (6件)：

G03F 1/24 ,  G03F 1/48 ,  G03F 1/50 ,  G03F 1/54 ,  G03F 1/60 ,  G03F 1/82

FI (6件)：

G03F1/24 ,  G03F1/48 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F1/60 ,  G03F1/82

Fターム (11件)：

2H195BA10 ,  2H195BB25 ,  2H195BB35 ,  2H195BC05 ,  2H195BC08 ,  2H195BC20 ,  2H195BC24 ,  2H195BC27 ,  2H195CA15 ,  2H195CA16 ,  2H195CA22