特許

J-GLOBAL ID：201903016736613545

再構成された画像のサンプルのセットのための補償オフセットを復号するための方法および装置

発明者： ギローム ラロシュ ,  クリストフ ジスケ ,  エドワード フランソワ ,  パトリス オンノ
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-076454
公開番号（公開出願番号）：特開2018-139426
特許番号：特許第6490276号
出願日： 2018年04月11日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 少なくとも一部の画像を構成するために復号されたサンプルに対して、サンプル適応オフセットによるフィルタリング処理を行う方法であって、 符号化されたサンプルの第1のクロマコンポーネントおよび第2のクロマコンポーネントを復号するステップと、 前記サンプル適応オフセットによるフィルタリング処理に関するパラメータを復号するステップと、 前記復号されたサンプル適応オフセットのパラメータに基づいて、前記復号された第1のクロマコンポーネントおよび第2のクロマコンポーネントに対してフィルタリング処理を行うステップと、を有し、 前記パラメータが、サンプル適応オフセットループフィルタリング無しを示す場合、前記復号されるパラメータは、前記第1のクロマコンポーネントと第2のクロマコンポーネントとで共有され、 前記パラメータが、第1のタイプのサンプル適応オフセットによるフィルタリング処理に関するパラメータである場合、前記復号されるパラメータは、前記第1のクロマコンポーネントと第2のクロマコンポーネントとで共有され、 前記パラメータが、前記第1のタイプとは異なる第2のタイプのサンプル適応オフセットによるフィルタリング処理に関するパラメータである場合、前記第1のクロマコンポーネントおよび第2のクロマコンポーネントにそれぞれ専用のパラメータが復号される、ことを特徴とする方法。

IPC (5件)：

H04N 19/70 ( 201 4.01) ,  H04N 19/136 ( 201 4.01) ,  H04N 19/82 ( 201 4.01) ,  H04N 19/117 ( 201 4.01) ,  H04N 19/176 ( 201 4.01)

FI (5件)：

H04N 19/70 ,  H04N 19/136 ,  H04N 19/82 ,  H04N 19/117 ,  H04N 19/176

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Sample Adaptive Offset for Chroma[online]