特許

J-GLOBAL ID：201903017112293798

水素製造装置

発明者： 堀内 学
出願人/特許権者： 矢崎総業株式会社
代理人 (4件)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-125968
公開番号（公開出願番号）：特開2019-006652
出願日： 2017年06月28日
公開日（公表日）： 2019年01月17日
要約：

【課題】空胴共振器内での水素と酸素との激しい反応を防止することができる水素製造装置を提供する。【解決手段】水素製造装置1は、マイクロ波照射装置2と、マイクロ波照射装置2から発振されるマイクロ波を共振させる空胴共振器3と、アンモニアガスを流通させる管状体であり、この管状体の少なくとも一部の内部が空胴共振器3内の電界強度が極大となる位置に一致するように空胴共振器3に貫通される反応管4と、反応管4内に充填され、前記アンモニアガスを分解して水素ガスを製造する水素製造用触媒5と、空胴共振器3内での水素と酸素との激しい反応を防止する水素-酸素反応防止構造100と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マイクロ波照射装置と、 前記マイクロ波照射装置から発振されるマイクロ波を共振させる空胴共振器と、 アンモニアガスを流通させる管状体であり、この管状体の少なくとも一部の内部が前記空胴共振器内の電界強度が極大となる位置に一致するように前記空胴共振器に貫通される反応管と、 前記反応管内に充填され、前記アンモニアガスを分解して水素ガスを製造する水素製造用触媒と、 前記空胴共振器内での水素と酸素との激しい反応を防止する水素-酸素反応防止構造と、を備える水素製造装置。

IPC (3件)：

C01B 3/04 ,  B01J 35/02 ,  H01M 8/060

FI (3件)：

C01B3/04 B ,  B01J35/02 G ,  H01M8/06 R

Fターム (15件)：

4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA05A ,  4G169BA07A ,  4G169BC40A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169CB81 ,  4G169EE03 ,  4G169ZA04A ,  5H127AC02 ,  5H127BA01 ,  5H127BA12 ,  5H127EE12