特許
J-GLOBAL ID:201903018444062230

カチオン性ケイ素(II)化合物およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  浅野 真理 ,  小島 一真
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-559237
公開番号(公開出願番号):特表2019-520322
出願日: 2016年05月11日
公開日(公表日): 2019年07月18日
要約:
本発明は、一般式I:(RaSi)+HA- (I)のカチオン性ケイ素(II)化合物を、一般式II:(Rb-H)(RaSi)+ (II)のケイ素(II)化合物と、水素化物受容体化合物Aとの反応により製造する方法であって、 式中、 Ra、(Rb-H)およびAは、請求項1に記載された定義を有する、方法、一般式Iのカチオン性ケイ素(II)化合物、および触媒としてのその使用に関する。
請求項(抜粋):
一般式I: (RaSi)+HA- (I) のカチオン性ケイ素(II)化合物を、一般式II: (Rb-H)(RaSi)+ (II) のケイ素(II)化合物と、化合物Aとの反応により製造する方法であって、 式中、 Raは、共有結合、イオン結合を介して前記カチオン性ケイ素原子に結合したか、または前記カチオン性ケイ素原子と1つ以上のπ結合を介して結合した、ヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、 (Rb-H)は、一般式III:
IPC (4件):
C07F 19/00 ,  C07F 17/00 ,  C07F 7/08 ,  C07F 5/02
FI (4件):
C07F19/00 ,  C07F17/00 ,  C07F7/08 C ,  C07F5/02 A
Fターム (17件):
4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB40 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ05 ,  4H049VR24 ,  4H049VS05 ,  4H049VT39 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
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