特許
J-GLOBAL ID:201903018444062230
カチオン性ケイ素(II)化合物およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 浅野 真理
, 小島 一真
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-559237
公開番号(公開出願番号):特表2019-520322
出願日: 2016年05月11日
公開日(公表日): 2019年07月18日
要約:
本発明は、一般式I:(RaSi)+HA- (I)のカチオン性ケイ素(II)化合物を、一般式II:(Rb-H)(RaSi)+ (II)のケイ素(II)化合物と、水素化物受容体化合物Aとの反応により製造する方法であって、 式中、 Ra、(Rb-H)およびAは、請求項1に記載された定義を有する、方法、一般式Iのカチオン性ケイ素(II)化合物、および触媒としてのその使用に関する。
請求項(抜粋):
一般式I:
(RaSi)+HA- (I)
のカチオン性ケイ素(II)化合物を、一般式II:
(Rb-H)(RaSi)+ (II)
のケイ素(II)化合物と、化合物Aとの反応により製造する方法であって、
式中、
Raは、共有結合、イオン結合を介して前記カチオン性ケイ素原子に結合したか、または前記カチオン性ケイ素原子と1つ以上のπ結合を介して結合した、ヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、
(Rb-H)は、一般式III:
IPC (4件):
C07F 19/00
, C07F 17/00
, C07F 7/08
, C07F 5/02
FI (4件):
C07F19/00
, C07F17/00
, C07F7/08 C
, C07F5/02 A
Fターム (17件):
4H048AA01
, 4H048AA02
, 4H048AA03
, 4H048AB40
, 4H048VA75
, 4H048VB10
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ05
, 4H049VR24
, 4H049VS05
, 4H049VT39
, 4H049VW02
, 4H050AA01
, 4H050AA02
, 4H050AA03
, 4H050AB40
引用特許:
引用文献:
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