特許

J-GLOBAL ID：201903018500922272

新規テトラチアスピロ化合物、それを含む光学用組成物、及びその製造方法

発明者： 福岡 弘直 ,  堀越 裕 ,  青柳 直人 ,  遠藤 剛
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (4件)： 小林 浩 ,  杉山 共永 ,  植竹 友紀子 ,  鈴木 康仁
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2017015094
公開番号（公開出願番号）：WO2017-183549
出願日： 2017年04月13日
公開日（公表日）： 2017年10月26日
要約：

本発明は、単量体として重合可能な化合物であって、向上した選択率及び簡便かつ少ない工程数で製造できる新規なテトラチアスピロ化合物、及びその製造方法を提供する。一実施形態によると、下記式(1)で表されるテトラチアスピロ化合物、及び下記式(A)で表されるトリチオカーボネート化合物と下記式(B)で表されるエピスルフィド化合物とを下記式(C)で表される亜鉛化合物触媒の存在下で反応させることを含む式(1)で表されるテトラチアスピロ化合物の製造方法が提供される。 【化17】

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるテトラチアスピロ化合物の製造方法であって、 下記式(A)で表されるトリチオカーボネート化合物と下記式(B)で表されるエピスルフィド化合物とを下記式(C)で表される亜鉛化合物触媒の存在下で反応させることを含む、製造方法:

IPC (1件)：

C07D 495/10

FI (1件)：

C07D495/10

Fターム (8件)：

4C071AA04 ,  4C071BB01 ,  4C071CC24 ,  4C071EE12 ,  4C071FF22 ,  4C071GG03 ,  4C071KK01 ,  4C071LL03