金属粉末の製造装置及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：友野英三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-130513
公開番号（公開出願番号）：特開2019-014917
出願日： 2017年07月03日
公開日（公表日）： 2019年01月31日
要約：

【課題】次世代の粉末冶金を応用する技術に適した、1000°Cを超える高融点金属に対しても、不純物が少なく、平均粒子径が10μm以下の真球状金属粉末を安定して量産することができるガスアトマイズ法を用いた金属粉末の製造装置及びその製造方法の提供。【解決手段】金属溶解部3、ガス噴霧部4、金属粉末生成部5、金属粉末収集部6等から構成される金属粉末製造装置1において、坩堝の金属溶湯流出孔3-4の直径を0.1〜0.5mmとし、金属溶解部3に圧力制御装置を備えた金属粉末の製造装置1及びその製造装置1を用いた金属粉末の製造法。金属溶湯流出孔の下端3-4-1から金属溶湯誘導管の下端3-6-1迄の間隔が10〜40mmである金属粉末の製造装置1。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属試料導入機構を備えた金属試料供給部と、高周波誘導加熱コイルと、前記コイルの内側に配設された金属溶湯流出孔を有する坩堝と、前記坩堝の金属溶湯流出孔から流下する金属溶湯が通過し、前記金属溶湯の略同心円となる円筒状の金属溶湯誘導管とを備えた金属溶解部と、前記金属溶湯誘導管を通過した前記金属溶湯の中心方向に噴霧ガス流を射出することができる、噴霧ガス導入機構と、前記噴霧ガス導入機構が連通される円環状の噴霧ガス貯留機構と、前記噴霧ガス貯留機構に穿設される円筒状のガス噴霧孔を備えたガス噴霧部と、前記金属溶湯に前記噴霧ガス流が射出されて金属粉末を生成する、流量制御機構を有する不活性ガス導入機構を備えた金属粉末生成部と、前記金属溶解部と前記ガス噴霧部と前記金属粉末生成部とを蔽うハウジングと、前記ハウジングに連通して前記金属粉末を収集する金属粉末収集部とからなる金属粉末の製造装置において、前記金属溶湯流出孔の孔径が、直径0.1〜0.5mmであり、前記金属溶解部に、前記金属溶解部の圧力の制御機構を配設したことを特徴とする金属粉末の製造装置。

IPC (1件)：

B22F 9/08

FI (1件)：

B22F9/08 A

Fターム (17件)：

4K017AA04 , 4K017BA01 , 4K017CA01 , 4K017CA07 , 4K017EB01 , 4K017EB03 , 4K017EB04 , 4K017EB07 , 4K017EB11 , 4K017EB27 , 4K017FA03 , 4K017FA04 , 4K017FA05 , 4K017FA07 , 4K017FA10 , 4K017FA11 , 4K017FA15

引用特許：

審査官引用 (13件)

金属粉末製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-075420 出願人：増本健, 井上明久, 帝国ピストンリング株式会社, ユニチカ株式会社, 本田技研工業株式会社, 株式会社真壁技研
特開昭63-050404
噴霧ノズル装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-320861 出願人：大同特殊鋼株式会社

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