特許

J-GLOBAL ID：201903018705067286

蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法

発明者： 西田 光志 ,  矢野 耕三 ,  岸本 克彦 ,  崎尾 進 ,  竹井 日出夫
出願人/特許権者： 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
代理人 (6件)： 奥田 誠司 ,  喜多 修市 ,  山下 亮司 ,  三宅 章子 ,  村瀬 成康 ,  北 倫子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-143703
公開番号（公開出願番号）：特開2018-168475
特許番号：特許第6461413号
出願日： 2018年07月31日
公開日（公表日）： 2018年11月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 樹脂層と、前記樹脂層上に形成された磁性金属層とを備えた蒸着マスクであって、 前記磁性金属層は、金属膜が存在している中実部と金属膜が存在していない非中実部とを含むマスク部と、前記マスク部を包囲するように配置された周辺部とを有し、 前記マスク部の前記非中実部は、複数の開口領域を含み、 前記樹脂層は、前記複数の開口領域のそれぞれの内側に配置された複数の開口部を有し、 前記マスク部の前記中実部は、前記複数の開口領域のそれぞれの内側に離散的に配置された複数の島状部を含む、蒸着マスク。

IPC (4件)：

C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  C23C 14/12 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 14/04 A ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-038101   出願人：株式会社ブイ・テクノロジー