特許

J-GLOBAL ID：201903018781734321

シリカ膜の製造方法およびシリカ膜

発明者： 増井 建太朗 ,  中田 邦彦 ,  幸塚 広光 ,  林堂 孝彦 ,  内山 弘章
出願人/特許権者： 住友化学株式会社 ,  学校法人 関西大学
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  佐藤 彰雄 ,  鈴木 慎吾 ,  加藤 広之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-035728
公開番号（公開出願番号）：特開2019-151495
出願日： 2018年02月28日
公開日（公表日）： 2019年09月12日
要約：

【課題】種々の屈折率のシリカ膜を容易に製造可能とする新規なシリカ膜の製造方法を提供する。また、このようなシリカ膜の製造方法により製造された低屈折率のシリカ膜を提供する。【解決手段】基材上に組成物を塗布して組成物の塗膜を形成する工程と、塗膜を加熱してシリカ膜を形成する工程と、を含み、組成物は、溶媒と、溶媒に可溶である金属塩と、テトラアルコキシシランとテトラアルコキシシランの縮合物とのいずれか一方または両方と、を含み、金属塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属を含む複塩からなる群から選ばれる少なくとも1つであり、シリカ膜を得る工程では、塗膜の加熱温度とシリカ膜の屈折率との対応関係に基づいて、加熱温度を制御するシリカ膜の製造方法。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基材上に組成物を塗布して前記組成物の塗膜を形成する工程と、 前記塗膜を加熱してシリカ膜を形成する工程と、を含み、 前記組成物は、溶媒と、前記溶媒に可溶である金属塩と、テトラアルコキシシランとテトラアルコキシシランの縮合物とのいずれか一方または両方と、を含み、 前記金属塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属を含む複塩からなる群から選ばれる少なくとも1つであり、 前記シリカ膜を得る工程では、前記塗膜の加熱温度と前記シリカ膜の屈折率との対応関係に基づいて、前記加熱温度を制御するシリカ膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  G02B 1/111 ,  C23C 18/12

FI (4件)：

C01B33/12 A ,  C01B33/12 C ,  G02B1/111 ,  C23C18/12

Fターム (29件)：

2K009AA02 ,  2K009CC01 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  4G072AA35 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF09 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ30 ,  4G072KK01 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM23 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30 ,  4K022AA05 ,  4K022BA15 ,  4K022BA20 ,  4K022BA27 ,  4K022BA28 ,  4K022DA06