特許

J-GLOBAL ID：201903018977289067

水処理システム

発明者： 松友 伸司 ,  真鍋 敦行
出願人/特許権者： 三浦工業株式会社
代理人 (2件)： 岩池 満 ,  加藤 竜太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-236327
公開番号（公開出願番号）：特開2019-103957
出願日： 2017年12月08日
公開日（公表日）： 2019年06月27日
要約：

【課題】除鉄除マンガン装置を備える水処理システムにおいて、有機物から生成される副生成物の量を低減でき、かつ、次亜塩素酸塩から生成される塩素酸の量を低減できる水処理システムを提供する。【解決手段】水処理システム1は、原水を供給する給水ライン21〜24と、給水ライン21〜24上に設置され、給水ライン21〜24上を供給される原水に次亜塩素酸塩を添加する薬注装置13と、薬注装置13の下流側において給水ライン21〜24上に設置され、給水ライン21〜24上を供給される原水に含まれる鉄分及びマンガン分のうち少なくとも一方を除去する除鉄除マンガン装置4と、を備える。さらに、薬注装置13の上流側に、給水ライン21〜24上を供給される原水に含まれるアニオン性の有機物を陰イオン交換体で吸着して除去する有機物除去装置8をさらに備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原水を供給する給水ラインと、 前記給水ライン上に設置され、前記給水ライン上を供給される原水に次亜塩素酸塩を添加する薬注装置と、 前記薬注装置の下流側において前記給水ライン上に設置され、前記給水ライン上を供給される原水に含まれる鉄分及びマンガン分のうち少なくとも一方を除去する除鉄除マンガン装置と、を備える水処理システムであって、 前記薬注装置の上流側に、前記給水ライン上を供給される原水に含まれるアニオン性の有機物を陰イオン交換体で吸着して除去する有機物除去装置をさらに備える、水処理システム。

IPC (5件)：

C02F 9/04 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/64 ,  C02F 9/02

FI (5件)：

C02F9/04 ,  C02F1/42 A ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/64 A ,  C02F9/02

Fターム (29件)：

4D025AA01 ,  4D025AB09 ,  4D025AB21 ,  4D025AB22 ,  4D025AB34 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BB02 ,  4D025BB09 ,  4D025DA02 ,  4D025DA05 ,  4D025DA10 ,  4D038AA01 ,  4D038AB66 ,  4D038AB89 ,  4D038BA04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB08 ,  4D038BB09 ,  4D050AA01 ,  4D050AB55 ,  4D050BB06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA15