特許
J-GLOBAL ID:201903019496118001
圧電薄膜付き積層基板および圧電薄膜素子
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
福岡 昌浩
, 橘高 英郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-211563
公開番号(公開出願番号):特開2018-019108
特許番号:特許第6502460号
出願日: 2017年11月01日
公開日(公表日): 2018年02月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板と、前記基板上に製膜された電極膜と、前記電極膜上に製膜された圧電薄膜と、を備え、
前記圧電薄膜は、
組成式(K1-xNax)NbO3(0<x<1)で表されるペロブスカイト構造のアルカリニオブ酸化物が(001)面方位に優先配向してなり、
Cuを0.2at%以上0.6at%以下の濃度で含み、
25×106V/mの電界を印加した際のリーク電流密度が500μA/cm2以下であり、
周波数1kHzの条件下で測定した際の比誘電率が1000以下である圧電薄膜付き積層基板。
IPC (3件):
H01L 41/187 ( 200 6.01)
, H01L 41/113 ( 200 6.01)
, H01L 41/09 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 41/187
, H01L 41/113
, H01L 41/09
引用特許: