研究者
J-GLOBAL ID:202001000305420995   更新日: 2024年09月18日

窪谷 茂幸

クボヤ シゲユキ | KUBOYA SHIGEYUKI
所属機関・部署:
職名: 特任准教授(研究担当)
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2021 - 2022 二次元層状物質を導入した反転積層窒化物深紫外発光素子の研究
  • 2014 - 2017 光源集積型波長変換による深紫外レーザの超小型化に関する研究
  • 2012 - 2015 局所ドーピング構造半導体による量子相関光子の生成および制御
  • 2010 - 2012 高相純度立方晶III族窒化物半導体薄膜成長とヘテロ構造の物性応用
  • 2009 - 2011 局所ドーピング構造半導体による単一光子発生に関する研究
論文 (62件):
  • Takashi Matsuoka, Hitoshi Morioka, Satoshi Semboshi, Yukihiko Okada, Kazuya Yamamura, Shigeyuki Kuboya, Hiroshi Okamoto, Tsuguo Fukuda. Properties of ScAlMgO4 as Substrate for Nitride Semiconductors. Crystals. 2023. 13. 3. 449-449
  • Bojin Lin, Hnin Lai Lai Aye, Yuto Imae, Kotaro Hayashi, Haruki Orito, Bei Ma, Shigeyuki Kuboya, Hideto Miyake, Yoshihiro Ishitani. Thermal radiation resonating with longitudinal optical phonon from surface micro-stripe structures on metal-gallium nitride and sapphire. Materials Science in Semiconductor Processing. 2022. 147. 106726-106726
  • Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Takao Nakamura, Masataka Kubo, Hideto Miyake. 263 nm wavelength UV-C LED on face-to-face annealed sputter-deposited AlN with low screw- and mixed-type dislocation densities. Applied Physics Express. 2022. 15. 5. 055501-055501
  • Yukino Iba, Kanako Shojiki, Shigeyuki Kuboya, Kenjiro Uesugi, Shiyu Xiao, Hideto Miyake. Effect of MOVPE growth conditions on AlN films on annealed sputtered AlN templates with nano-striped patterns. Journal of Crystal Growth. 2021. 570. 126237-126237
  • Kenjiro Uesugi, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Shigeyuki Kuboya, Hideto Miyake. Effect of the Sputtering Deposition Conditions on the Crystallinity of High-Temperature Annealed AlN Films. Coatings. 2021. 11. 8. 956-956
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MISC (7件):
  • 上杉 謙次郎, 正直 花奈子, 窪谷 茂幸, 肖 世玉, 三宅 秀人. 高温アニールしたスパッタ成膜AlNテンプレートを用いたUV-C LEDの開発 (光・量子デバイス研究会・パワー光源システム技術研究会). 電気学会研究会資料. OQD = The papers of technical meeting on optical and quantum devices, IEE Japan. 2021. 2021. 34. 17-22
  • 渋谷康太, 上杉謙次郎, 上杉謙次郎, XIAO Shiyu, 正直花奈子, 窪谷茂幸, 秋山亨, 三宅秀人, 三宅秀人. r面サファイア基板上への高温アニールa面AlN膜作製における基板オフ角依存性. 電子情報通信学会技術研究報告(Web). 2021. 121. 259(ED2021 15-36)
  • 渋谷康太, 上杉謙次郎, 上杉謙次郎, XIAO S., 正直花奈子, 窪谷茂幸, 秋山亨, 三宅秀人, 三宅秀人. スパッタアニール法を用いたa面AlNの結晶性の基板オフ角依存性. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
  • 上杉 謙次郎, 王 丁, 正直 花奈子, 窪谷 茂幸, 三宅 秀人. 深紫外LED応用に向けた低転位密度AlNの作製 (特集 深紫外発光デバイスの実現に向けた窒化物半導体結晶成長の進展). 日本結晶成長学会誌 Journal of the Japanese Association for Crystal Growth. 2020. 47. 3. 1-10
  • 谷川 智之, プラスラットスック キャッティウット, 木村 健司, 窪谷 茂幸, 松岡 隆志. 有機金属気相成長法によるN極性窒化物半導体の成長技術 (特集 特異構造の結晶科学 : 結晶成長と構造・物性相関). 日本結晶成長学会誌 Journal of the Japanese Association for Crystal Growth. 2018. 45. 1. 8p
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経歴 (6件):
  • 2019/04 - 現在 三重大学 地域創生戦略企画室 特任准教授(研究担当)
  • 2013/04 - 2019/03 東北大学金属材料研究所 助教
  • 2010/05 - 2013/03 東京大学大学院新領域創成科学研究科 助教
  • 2009/12 - 2010/05 東京大学大学院新領域創成科学研究科 特任助教
  • 2008/12 - 2009/11 Center for Quantum Devices, Northwestern University Postdoctoral Fellow
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