山川進二

ヤマカワシンジ | Yamakawa Shinji

所属機関・部署：
職名：助教
ホームページURL (1件)： https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/sr-nanotechnology/index.html

研究分野 (2件)：光工学、光量子科学 , 高分子化学

研究キーワード (6件)：軟X線分析 , フォトレジスト , EUVリソグラフィ , 放射光 , 高分子合成 , 錯体触媒

競争的資金等の研究課題 (1件)：

論文 (13件)：

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. The x-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-tone PAG bound resist. International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023. 2023
Umi Fujimoto, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe. Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography. Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. 2023
Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe. Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 61-65
Tomohito Kizu, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Seiji Yasui, Tomoyuki Shibagaki. Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 55-59
Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto. Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 49-54

MISC (2件)：

渡邊健夫, 原田哲男, 山川進二. EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫. レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討. X線分析討論会講演要旨集. 2022. 58th

特許 (2件)：

学歴 (3件)：

学位 (1件)：

経歴 (2件)：

委員歴 (1件)：

受賞 (1件)：

所属学会 (4件)：

日本放射光学会 , SPIE , フォトポリマー学会 , 高分子学会

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山川 進二