研究者
J-GLOBAL ID：202001013117524710   更新日: 2024年02月01日

伊藤 智子

イトウ トモコ | Tomoko Ito
所属機関・部署：
大阪大学 大学院工学研究科

大阪大学 大学院工学研究科 について


ホームページURL (1件)： http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
研究分野 (1件)： プラズマ応用科学
研究キーワード (3件)： プラズマ固体表面反応 ,  プラズマ微細加工プロセス ,  原子層エッチング
競争的資金等の研究課題 (7件)：
  • 2021 - 2024 ビーム実験による次世代半導体Ga2O3のプラズマエッチング表面反応機構の解明
  • 2022 - 2023 in-situ表面反応解析装置を用いた磁性材料に対するサーマル原子層エッチング表面反応機構の解明
  • 2021 - 2022 超音速分子ビームを用いた遷移金属におけるアトミックレイヤーエッチング表面反応機構の解明
  • 2018 - 2021 反応性プラズマを用いた原子層エッチング開発のためのイオン-固体表面反応機構の解明
  • 2017 - 2018 反応性プラズマを用いた原子層エッチング(ALE:Atomic Layer Etching)プロセス開発のためのプラズマ表面反応機構の解明
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論文 (22件)：
  • Foundations of atomic-level plasma processing in nanoelectronics. 2022. 31. 10. 103002-103002
  • Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi. Low-energy ion irradiation effects on chlorine desorption in plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) for silicon nitride. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SI. SI1011-SI1011
  • Joe Kodama, Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Miroslav Michlíček, Satoshi Sugimoto, Hidekazu Kita, Ryota Chijimatsu, Yuichiro Ukon, Junichi Kushioka, Rintaro Okada, et al. Amine modification of calcium phosphate by low-pressure plasma for bone regeneration. Scientific Reports. 2021. 11. 1. 17870-17870
  • Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Abdullah Y. Jaber, Erin Joy, Capdos Tinacba, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi. Low Energy Ion Effects in Plasma-Enhanced SiN-ALD processes. 2021
  • Erin Joy Capdos Tinacba, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Michiro Isobe, Satoshi Hamaguchi. Molecular dynamics simulation for reactive ion etching of Si and SiO<sub>2</sub> by SF 5 + ions. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2021. 39. 4. 043203-043203
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MISC (33件)：
  • 唐橋 一浩, 伊藤 智子, 浜口 智志. エッチング表面反応の実験的理論的アプローチ. 応用物理学会誌「応用物理」. 2022. 91. 3
  • 伊藤智子, 北英和, 鈴木歩太, 加賀谷宗仁, 松隈正明, 松崎和愛, 唐橋一浩, 浜口智志. SiNのプラズマ支援ALDにおける低エネルギーイオンの効果. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志. 難エッチング材料に対する原子層エッチング反応解析. プラズマ・核融合学会誌. 2021. 97. 9. 522-527
  • 伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志. 原子層プロセスにおける低エネルギーイオン照射誘起表面反応. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
  • 平田瑛子, 平田瑛子, 深沢正永, 釘宮克尚, 萩本賢哉, 岩元勇人, TERCERO J. U., 礒部倫郎, 伊藤智子, 唐橋一浩, et al. Atomic Layer Etchingの吸着層が基板ダメージ生成に与える影響. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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特許 (2件)：
  • Artificial bone and manufacturing method of artificial bone
  • 放射性プルーム監視システムおよび放射性物質検出装置
講演・口頭発表等 (70件)：
  • Surface analyses of β-diketone-adsorbed transition metal materials in atomic layer etching (ALE) processes
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • Surface reactions of Si and SiO 2 exposed t o energetic tungsten fluoride ion beams
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • Thermal and Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition of Strontium Oxide on Artificial Spinal Cage
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • フッ化タングステンイオンによるSiおよびSiO2エッチング反応の評価
    (第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
  • SiO2 etching reactions by high-energy WFx+ (X= 1-4) ion injection
    (DPS2022 43rd International Symposium on Dry Process 2022)
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学歴 (3件)：
  • 2010 - 2013 大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻生産科学コース 博士後期課程
  • 2008 - 2010 大阪大学大学院 工学研究科 マテリアル生産科学専攻生産科学コース博士前期課程
  • 2004 - 2008 奈良女子大学 理学部 物理科学科(その他)
経歴 (4件)：
  • 2023/04 - 現在 マテリアル生産科学専攻 生産科学コース 助教
  • 2020/04/01 - 現在 大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター 助教
  • 2016/04/01 - 2020/03/31 大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター 特任研究員(常勤)
  • 2014/04/01 - 2016/03/31 大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター 特任研究員
委員歴 (2件)：
  • 2023/04 - 現在 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事
  • 2022/04 - 現在 42nd International Symposium on Dry Process Exective Committee
受賞 (3件)：
  • 2014/05 - 日本質量分析学会 第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞
  • 2012/09 - 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 第11回プラズマエレクトロニクス賞
  • 2010/11 - 第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会 Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process)
所属学会 (3件)：
American Vacuum Society ,  プラズマエレクトロニクス分科会(応用物理学会 ) ,  応用物理学会
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