上根直也

ウエネナオヤ | Uene Naoya

所属機関・部署：
職名：特任助教(常勤)
ホームページURL (2件)： http://www.ifs.tohoku.ac.jp/nanoint/jpn/members/uene/index.html , https://www.researchgate.net/profile/Naoya-Uene

研究分野 (4件)：複合材料、界面 , 薄膜、表面界面物性 , 反応工学、プロセスシステム工学 , 流体工学

研究キーワード (9件)：ニューラルネットワーク力場 , ReaxFF , 反応性力場分子動力学法 , 半導体製造プロセス , プロセスシミュレーション , 化学気相堆積法 , 原子層堆積法 , エッチング , マテリアルズ・インフォマティクス

競争的資金等の研究課題 (3件)：

論文 (16件)：

Naoya Uene, Takuya Mabuchi, Masaru Zaitsu, Shigeo Yasuhara, Adri C. T. van Duin, Takashi Tokumasu. Reactive Force Field Molecular Dynamics Studies of the Initial Growth of Boron Nitride Using BCl3 and NH3 by Atomic Layer Deposition. The Journal of Physical Chemistry C. 2024. 128. 3. 1075-1086
Hiroki Nishizawa, Takuya Mabuchi, Naoya Uene, Takashi Tokumasu. Molecular analysis of hydrogen-bond structures in polymer electrolyte membrane in polymer electrolyte fuel cells below freezing temperatures. ECS Transactions. 2023. 112. 4. 285-290
Naoya Uene, Takuya Mabuchi, Masaru Zaitsu, Shigeo Yasuhara, Takashi Tokumasu. Reactive Force Field Molecular Dynamics Study of the Effects of Gaseous Species on the Composition and Crystallinity of Silicon-Germanium Thin Films. Crystal Growth & Design. 2023. 23. 7. 4990-5000
N. Uene, T. Mabuchi, M. Zaitsu, Y. Jin, S. Yasuhara, T. Tokumasu. Growth mechanism study of boron nitride atomic layer deposition by experiment and density functional theory. Computational Materials Science. 2023. 217. 111919
Naoya Uene, Takuya Mabuchi, Masaru Zaitsu, Shigeo Yasuhara, Takashi Tokumasu. Reactive force-field molecular dynamics simulation for the surface reaction of SiH (x = 2-4) species on Si(1 0 0)-(2 × 1):H surfaces in chemical vapor deposition processes. Computational Materials Science. 2022. 204. 111193-111193

MISC (2件)：

上根直也, 馬渕拓哉, 財津優, 安原重雄, 徳増崇. CVDプロセスにおける表面反応機構の分子動力学解析. 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM). 2020. 57th
上根直也. とある高専生の夢コン体験記. 日本機械学会流体工学部門ニューズレター流れ. 2016

講演・口頭発表等 (49件)：

フッ化物イオンによる二酸化ケイ素エッチングの反応性分子動力学解析
(2024年第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
反応性力場分子動力学法を用いたシリコン酸化膜中のシリコンナノ結晶形成プロセスの解析
(2024年第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
IV族半導体材料の熱酸化プロセスにおける酸化膜厚の温度依存性への反応性力場分子動力学解析
(2024年第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
A ReaxFF Molecular Dynamics (MD) Simulations : A powerful tool to analyze an atomic behavior in semiconductor process - How does an inhibitor adsorb and work in Area-Selective ALD? -
(2024)
A ReaxFF Study for Hacac Interaction on Al2O3 Surface in Area-Selective ALD
(AVS 69th International Symposium & Exhibition 2023)

学歴 (4件)：

学位 (1件)：

経歴 (5件)：

受賞 (9件)：

2018/07 - 東北大学研究所長会議第4回東北大学若手研究者アンサンブルワークショップ優秀ポスター賞
2017/12 - International Student Conference 2017(平成29年度海外協定校合同研究発表会 in Singapore) 最優秀発表賞
2017/11 - The 12th International Symposium on Advanced Science and Technology in Experimental Mechanics The Best Research Award
2016/11 - 一般社団法人日本機械学会流体工学部門第14回流れの夢コンテスト一樹賞
2016/09 - The 11th International Symposium on Advanced Science and Technology in Experimental Mechanics Encouragement Poster Award

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所属学会 (2件)：

日本伝熱学会 , 日本機械学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

上根 直也