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J-GLOBAL ID：202002210903414380   整理番号：20A0428513

光触媒H_2生成のためのヘテロレプチックCu(I)光増感剤の還元消光への洞察【JST・京大機械翻訳】

Insight into the Reductive Quenching of a Heteroleptic Cu(I) Photosensitizer for Photocatalytic H₂ Production

著者 (2件)： Saeedi Sima (Department of Chemistry and Biochemistry, Ohio University, Ohio, United States) ,  White Travis A. (Department of Chemistry and Biochemistry, Ohio University, Ohio, United States)
資料名： ACS Applied Energy Materials  (ACS Applied Energy Materials)
巻： 3  号： 1  ページ： 56-65  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5032A  ISSN： 2574-0962  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘテロレプティックCu-(I)光増感剤は酸化的または還元的消光機構を通して光誘起電子移動を起こす。著者らは以前に,[Cu-I(Xantphos)-(biq)]-PF_6(Xantphos=4,5-ビス-(ジフェニルホスフィノ)-9,9-ジメチルキサンテン;biq=2,2′-ビキノリン)とN,N-ジメチルアニリン(DMA)電子ドナーの可視光励起が励起状態還元消光により還元光増感剤と酸化ドナーを生成することを示した。ここでは,(1)アリール環の周りに位置するメチル置換基(-CH_3)および(2)電子供与性(例えば-OCH_3,-CH_3)またはパラ位における電子供与性(-Br,-C-(O)-OEt)置換基を拡張して,[CuI(Xantphos)-(biq)]+の還元消光の熱力学的閾値を確立した。電気化学的および分光学的方法の組み合わせを用いて,電子ドナー(標識E(ED+/0))に対する必要な酸化電位を決定し,励起状態還元消光に関与して[Cu~I(Xantphos)-(biq-)]~0を得た。cis-[Rh~III(Me_2bpy)_2Cl_2]-PF_6触媒(Me_2bpy=4,4′-ジメチル-2,2′-ビピリジンへのその後の基底状態電子移動は,触媒活性化(Rh-(I)形成)とH_2発生をもたらす。重要なことに,一電子酸化ドナー(ED+)の安定性は競合する前進及び逆電子移動反応に影響し,4-メトキシ-N,N-ジメチルアニリン(MeO-DMA)は用いた最も強い還元剤であるが,MeO-DMA+の化学安定性はRh-ポリピリジル触媒上の電子蓄積を妨げる。著者らの発見は,電子移動生成物の熱力学と化学的安定性の組合せが,Cu-(I)光増感剤とRh触媒だけでなく,電子源に対する重要な考察であることを示した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電気化学 ,  *光触媒 ,  電子移動 ,  励起 ,  励起状態 ,  可視光 ,  電子源 ,  触媒活性 ,  *触媒 ,  還元剤 ,  熱力学 ,  *光増感剤 ,  ドナー ,  酸化 ,  *消光

著者キーワード (5件)： 電子ドナー ,  還元的消光 ,  ヘテロレプチックCu(I)光増感剤 ,  可視光吸収 ,  光触媒水素発生

分類 (2件)： 二次電池  (YB04030K) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光触媒 ,  Cu ,  光増感剤 ,  還元 ,  消光 ,  洞察