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J-GLOBAL ID:202002211148219815   整理番号:20A1362293

高出力マイクロ波応用のためのパルスElectronビーム源の開発【JST・京大機械翻訳】

Developments of Pulsed Electron Beam Sources for High-Power Microwave Applications
著者 (9件):
資料名:
巻:ページ: 101351-101358  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2422A  ISSN: 2169-3536  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高電流パルス電子ビーム源は高出力マイクロ波システムのコア部品である。将来の応用の要求を満たすために,真空断熱,ビーム輸送,および熱管理の観点から電子ビーム源の性能を改善する必要がある。本論文では,高電流真空電子ビーム源の開発における最近の進歩について報告する。高出力マイクロ波管の真空維持要求を満たすために,セラミック金属ろう付け技術に基づいて,高電場セラミック真空界面を設計し製作した。実験では,セラミック真空界面の安定な動作が,600kV以上の耐電圧と約100nsのパルス幅を有する10Hzの繰返しモードで実証された。さらに,SiCナノワイヤを用いて冷陰極を開発し,90kV/cmの電場強度の下で1.2kA/cm2の平均ビーム電流密度を達成した。従来のベルベットカソードと比較して,SiCナノワイヤカソードの特性,例えば,マクロ電気安定性,放出均一性,および動作寿命は著しく改善された。さらに,相対論的後方波発振器管用の高電流電子ビームコレクタを開発した。高比エネルギーと低流量の両方の要求を満たすために,集熱器でスパイラル水路を設計した。それは,耐熱流動密度が1012W/m2のオーダーであり,それはシステムの長いパルスと反復操作に適していることを示した。これらの結果は,長寿命高出力マイクロ波システムの実用化に向けた重要なステップである。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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音響信号処理 
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