文献
J-GLOBAL ID:202002212739862125   整理番号:20A0395039

円柱状Langmuirプローブ周りの温イオンシースに対する流体モデルにおける衝突の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of collisions in a fluid model for the warm-ion sheath around a cylindrical Langmuir probe
著者 (4件):
資料名:
巻: 28  号: 11  ページ: 115017 (10pp)  発行年: 2019年 
JST資料番号: W0479A  ISSN: 0963-0252  CODEN: PSTEEU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
一定イオン平均自由行程を仮定して衝突項を導入した流体方程式を用いて,衝突プラズマ中に浸漬した長い円筒Langmuirプローブをモデル化した。システムの物理的大きさは,衝突パラメータの摂動級数,すなわちDebye長とイオン平均自由行程間の比,に拡張され,システムはゼロ次および一次摂動系に分離される。イオン温度は任意で,プラズマからプローブへの連続溶液を摂動系に対して得た。この方法を用いて,2スケールの研究または漸近整合を必要とせずに,イオン温度の長いイオン平均自由行程に対して,円筒Langmuirプローブの周りのイオンシースの連続解を得た。衝突とイオン温度は反対の効果を持ち,これらの効果を定量化した。この方法を用いて低温イオンの溶液を直接得ることはできないが,温イオン溶液から回収できる。この方法は,プローブのスケールがシースのスケールよりもはるかに高い長い円筒プローブに対して使用可能であり,そのため,幾何学は本質的に円筒状である。このモデルを数値的に解いてポテンシャル分布,イオン温度分布,イオン密度分布,イオン速度分布を求め,イオン平均自由行程とイオン温度に対するシースの依存性を調べた。異なるプローブ半径に対するプローブポテンシャルプロファイルに対するイオン電流を得た。最後に,プラズマ診断における解を用いるために,Soninプロットを計算した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ診断  ,  固体-プラズマ相互作用  ,  プラズマ一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る