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J-GLOBAL ID：202002212761342494   整理番号：20A1020811

中間IR反射防止表面テクスチャリング応用のためのナノ構造の設計と作製【JST・京大機械翻訳】

Design and fabrication of nanostructure for mid-IR antireflection surface texturing applications

著者 (7件)： Sood Rachit M. (Univ. of Maryland, Baltimore County (United States)) ,  Nafisa Fatima (Univ. of Maryland, Baltimore County (United States)) ,  Bamford Douglas (Physical Sciences Inc. (United States)) ,  Woolf David (Physical Sciences Inc. (United States)) ,  Hensley Joel (Physical Sciences Inc. (United States)) ,  Singh Narsingh (Univ. of Maryland, Baltimore County (United States)) ,  Choa Fow-Sen (Univ. of Maryland, Baltimore County (United States))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11292  ページ： 112921F-9  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学素子とフォトニック素子の性能を改善するためには,物質表面からの不要な光反射の低減が非常に重要である。反射防止(AR)表面組織は,表面反射の強度を減少させるために,レンズと他の光学素子の表面上に作り出すことができる。Arテクスチャは,多くの応用,低および高パワーの両方で不可欠であり,高度に湾曲した光学部品に対してますます要求されている。ナノ作製は,ナノメートルスケールでのデバイスの作製を含む。本研究では,ナノ加工を用いて,Galium Arsenide(GaAs)における異なる空間ピッチとギャップ幅の正方形と六角形のナノ構造を設計し,作製した。これらの構造は,300nm,400nmのギャップおよび900nm,1000nmおよび1100nmのピッチを有していた。作製プロセスは,溶媒洗浄,酸化ケイ素の堆積,ソフトでハードなバーク,フォトリソグラフィー,および開発を含んでいる。湿式および乾式エッチングの両方を用いて,期待される構造を作製した。作製したアレイの形状を調べるための走査電子顕微鏡(SEM)からの結果を本研究で示した。乾燥および湿潤エッチを組み合わせることによって,著者らは,丸いエッジを有する六角形および二乗の望ましい形状および深さを得た。各ステップでの詳細な製造プロセスとそれらの対応する結果を報告した。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  表面構造 ,  レンズ ,  アルゴン ,  酸化ケイ素 ,  湿潤 ,  光反射 ,  光学素子 ,  ドライエッチング ,  生産工程 ,  ナノメータ加工 ,  フォトリソグラフィー ,  *ナノ構造
準シソーラス用語： *反射防止 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  その他の光学機器  (QF05060C)

タイトルに関連する用語 (7件)： Ir ,  反射防止 ,  表面テクスチャリング ,  応用 ,  ナノ構造 ,  設計 ,  作製