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J-GLOBAL ID：202002212820274580   整理番号：20A2057740

グラフェン膜の反応性に及ぼす歪の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of strain on the reactivity of graphene films

著者 (2件)： Kropp Thomas (Department of Chemical and Biological Engineering, University of WI-Madison, 1415 Engineering Drive, Madison, WI 53706-1607, United States) ,  Mavrikakis Manos (Department of Chemical and Biological Engineering, University of WI-Madison, 1415 Engineering Drive, Madison, WI 53706-1607, United States)
資料名： Journal of Catalysis  (Journal of Catalysis)
巻： 390  ページ： 67-71  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0480A  ISSN： 0021-9517  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 純粋および窒素ドープグラフェンへの原子種(Cl,H,NおよびO)の吸着に及ぼす歪の影響を,密度汎関数理論を用いて調べた。膨張歪は,グラフェンπ軌道を不安定化することによって表面反応性を増加させ,それは延伸金属表面で観察されるdバンド中心のシフトと類似している。しかし,圧縮歪は,リッジサイトで原子種を強く結合するナノリップルの形成をもたらし,これは圧縮金属表面での吸着と基本的に異なる。著者らの知見は,歪みがグラフェンの反応性を操作する効果的な手段として使用できることを示唆し,これは酸素還元反応のために明確に示された。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着 ,  表面反応 ,  延伸 ,  π軌道 ,  密度汎関数法 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 圧縮歪 ,  不安定化 ,  金属表面 ,  酸素還元 ,  窒素ドーピング ,  膨張ひずみ ,  ナノリップル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 吸着 ,  密度汎関数理論 ,  グラフェン ,  酸素還元反応 ,  歪

分類 (2件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： グラフェン膜 ,  反応性 ,  歪