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J-GLOBAL ID:202002213879498826   整理番号:20A0388870

Si基板上のAgナノワイヤにおけるプラズモン伝搬の減少した損失【JST・京大機械翻訳】

Reduced loss of plasmon propagation in a Ag nanowire on Si substrate
著者 (6件):
資料名:
巻: 68  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: W3116A  ISSN: 2211-2855  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属ナノ構造中を伝搬する表面プラズモンポラリトン(SPP)のエネルギー損失は,サブ波長スケールでの集積フォトニクス素子におけるそれらの実用化に対するボトルネックである。本研究では,Si上に厚いAgナノワイヤ(NW)を用いて,伝搬損失を顕著に低減できることを見出した。伝搬長はSiO_2/Si基板上のそれより約2倍大きい。そして,Si基板は,一般的に使用される基板(Si,SiO_2/Siおよびガラス)の3つの型の間で,最小エネルギー損失を示した。増強された混成とモード分裂への機構は,ナノワイヤプラズモンとSi基板の間のより強い相互作用に起因すると考えられる。それは,基板へのオーム損失とエネルギー放射をさらに減少させることができる。著者らの発見は,Siベースの電子回路とデバイスとの集積に重要な高次プラズモンモードの支援におけるSi基板の利点を実証した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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二次電池  ,  電気化学反応 

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