文献
J-GLOBAL ID:202002213908261846   整理番号:20A0866258

1200V 4H-SiCトレンチJBSダイオードの研究と開発【JST・京大機械翻訳】

Research and Development of 1200V 4H-SiC Trench JBS Diode
著者 (20件):
資料名:
巻: 782  号:ページ: 032081 (7pp)  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5559A  ISSN: 1757-8981  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本論文では,1200V SiCトレンチ接合障壁Schottky(JBS)ダイオードの設計と製造プロセスを紹介し,ダイオードの性能を試験した。ダイオード構造のセルとターミナルは両方ともトレンチ構造を採用して,シミュレーションと初期段階によって,デバイスセルとターミナル構造の構造パラメータを決定して,1200V SiCトレンチJBSダイオードの製造は,完全な技術的プロセスを通して完成した。試験結果は,電流が20A,順方向電圧降下が1.53Vであるとき,室温における1200Vの下の装置の漏れ電流が約0.36uAであることを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
ダイオード 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る