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J-GLOBAL ID：202002213911612577   整理番号：20A1746704

単層WS_2上の接触金属の反応性【JST・京大機械翻訳】

Reactivity of contact metals on monolayer WS₂

著者 (3件)： Agyapong A. D. (Department of Materials Science and Engineering, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania 16802, USA) ,  Cooley K. A. (Department of Materials Science and Engineering, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania 16802, USA) ,  Mohney S. E. (Department of Materials Science and Engineering, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania 16802, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 128  号： 5  ページ： 055306-055306-10  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次元遷移金属ジカルコゲン化物(TMD)を電子および光電子応用に導入することは,金属/TMD相互作用の基本的な理解を必要とする。本研究は,破壊的および非破壊的方法の両方を用いて,Raman分光法による金属接触と単層(1L)WS_2間の反応性を観察するための迅速で容易なアプローチを適用した。著者らは,バルク材料の反応性に関する以前に発表された熱力学的予測によるアニーリング後,背面形状および機械的剥離金属/WS_2膜から収集されたRamanスペクトルからの知見を比較した。WS_2に対するRaman活性フォノンモードの消失は,堆積時にTiに対して完全に観察され,そして100°C以上でのアニーリング後にAlに対してほとんど完全に観察されるように,連続金属膜との反応によるWS_2の消費を示唆した。一方,WS_2に対する多重Raman活性フォノンモードの持続性は,Au,Cu,およびPdが,堆積時にWS_2と反応せず,100,200,および300°Cで1時間累積的にアニールすると,非反応性金属被覆層がスペクトル中のピークのいくつかをシフトできるにもかかわらず,1時間の累積的にアニールすることを確認した。本研究で観測された金属/WS_2の反応性はバルク熱力学からの予測と良く一致し,他の金属/TMD系の研究に対する良好な指針を提供できる。さらに,Ramanスペクトルを収集するための背面形状を用いることは,TMDとの界面の基本的な研究を助けることができる。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Ramanスペクトル ,  界面 ,  *焼なまし ,  相互作用 ,  熱力学 ,  アルミニウム ,  チタン ,  パラジウム ,  スペクトル ,  金属薄膜 ,  多重化 ,  メタライゼーション ,  二次元 ,  Raman分光法
準シソーラス用語： フォノンモード , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 無機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル  (BM08063C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 単層 ,  反応性