文献
J-GLOBAL ID:202002214089808315   整理番号:20A0475652

材料研究のための磁気絶縁ダイオードによる強力パルスイオンビームの集束【JST・京大機械翻訳】

Focusing of intense pulsed ion beam by magnetically insulated diode for material research
著者 (35件):
資料名:
巻: 384  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
材料改質のための能動的磁気絶縁ダイオードによる強いパルスイオンビームの断面分布と集束特性を示した。イオンビーム加速器BIPPA-450はイオン源として高分子の表面フラッシュオーバを用い,パルス長120ns,イオンエネルギー450keV,エネルギー密度3J/cm2までの陽子と炭素イオンからなる強いパルスイオンビームを発生させる。材料表面への強いフラッシュ熱効果により,イオンビームは表面処理とアブレーション関連応用に使用できる。イオンビームの断面分布を赤外イメージング法で測定した。ダイオードの集束に関する結果は,陽極表面上のプラズマ発生の分布を明らかにした。輸送中のビーム集束に関する比較研究を行い,銅ビームリミッタを用いることにより,最大ビームエネルギー密度を約1.5倍に増加できることを実証した。リミッタによるビーム位相空間分布の変化も示し,ビーム診断と最適化に及ぼす影響を合理的に検討した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電子ビーム,イオンビーム  ,  発光素子 

前のページに戻る