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J-GLOBAL ID:202002214177093108   整理番号:20A1060613

圧力下の二酸化炭素の存在下でのCelgard多孔質マトリックス上へのキトサン被覆の堆積【JST・京大機械翻訳】

Deposition of a Chitosan Coating on Celgard Porous Matrices in the Presence of Carbon Dioxide under Pressure
著者 (7件):
資料名:
巻: 62  号:ページ: 123-131  発行年: 2020年 
JST資料番号: W4853A  ISSN: 0965-545X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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キトサン被覆は,高圧下で二酸化炭素で飽和したキトサンの水溶液からCelgardポリオレフィンマトリックスの細孔表面上に堆積できることを示した。すなわち,炭酸が形成されると,それらが生成する。被覆の安定性を確保するために,過酸化水素の水溶液を高圧で二酸化炭素で飽和させると,最初に疎水性マトリックスを過酸化炭素の存在下で前処理しなければならない。堆積した被覆の形態を高分解能顕微鏡で調べた。導入された親水性特性を,水によるマトリックス表面の濡れの性質の変化から評価した。キトサンで修飾した親水化マトリックスは,低い特性細孔径にもかかわらず,初期マトリックスよりも水に対して約1.5倍高い透過性を有することが分かった。Copyright Pleiades Publishing, Ltd. 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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多糖類  ,  セラミック・陶磁器の製造 
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