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J-GLOBAL ID：202002214598790577   整理番号：20A1502696

焼結の科学と技術の新展開 Cold Sintering法の現状と展望

Present Understanding and Future Prospects in Cold Sintering

著者 (4件)： NDAYISHIMIYE Arnaud (Pennsylvania State Univ.) ,  辻皓介 (Pennsylvania State Univ.) ,  舟橋修一 (Murata Manufacturing Co., Ltd.) ,  RANDALL Clive A. (Pennsylvania State Univ.)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 55  号： 7  ページ： 493-496  発行年： 2020年07月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・Cold Sintering(CS)法について解説し,CS法の手順とメカニズム,CS法の分類と設計指針,事例などを紹介。
・CS法は,一軸加圧と僅かな溶媒を使用して400°C以下で酸化物や複合体を作製する技術であり,Royらが1970年初めにセメントペーストの作製で研究。
・CS法の設計指針では「溶媒」の選択が高密度化を達成するための最も重要なポイントであることを説明し,CS法の反応経路による分類と実例を紹介。
・CS法の事例として,NaOH/KOH混合フラックスを用いたBaTiO₃の高密度化,非晶質のSiO₂原料にNaOH水溶液を添加してα水晶が得られる反応などを説明。

シソーラス用語： *焼結 ,  加圧 ,  *溶媒 ,  *緻密化 ,  セラミック ,  反応経路 ,  水酸化ナトリウム ,  水酸化カリウム ,  融剤 ,  非晶質 ,  二酸化ケイ素 ,  石英 ,  チタン酸バリウム
準シソーラス用語： 低温焼結

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (20件)：

• D. M. Roy, G. R. Gouda and A. Bobrowsky, Cem Concr Res., 2, 349-366 (1972).
• H. Toraya, M. Yoshimura and S. Sōmiya, J. Am. Ceram. Soc., 65, 159-160 (1982).
• N. Yamasaki, K. Yanagisawa, M. Nishioka and S. Kanahara, J. Mater. Sci. Lett., 5, 355-356 (1986).
• G. Goglio, A. Ndayishimiye, A. Largeteau and C. Elissalde, Scr Mater., 158, 146-152 (2019).
• R. E. Riman and V. Atakan, patent US8313802B2 (2012).

タイトルに関連する用語 (6件)： 焼結 ,  科学 ,  展開 ,  COLD ,  現状 ,  展望