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J-GLOBAL ID：202002215077238300   整理番号：20A1063304

非晶質ナノ多孔性有機ケイ酸塩薄膜の熱伝導率-構造-加工関係【JST・京大機械翻訳】

Thermal conductivity-structure-processing relationships for amorphous nano-porous organo-silicate thin films

著者 (18件)： Harikrishna Hari (Department of Engineering Science and Mechanics, Virginia Tech, Blacksburg, VA, USA) ,  Harikrishna Hari (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA) ,  Huxtable Scott T. (Department of Mechanical Engineering, Virginia Tech, Blacksburg, VA, USA) ,  Shir Ira Ben (Schulich Faculty of Chemistry and Russell Berrie Nanotechnology Institute, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel) ,  Kababya Shifi (Schulich Faculty of Chemistry and Russell Berrie Nanotechnology Institute, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel) ,  Schmidt Asher (Schulich Faculty of Chemistry and Russell Berrie Nanotechnology Institute, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel) ,  Dutta Dhanadeep (Department of Physics, University of Michigan, Ann Arbor, MI, USA) ,  Dutta Dhanadeep (Radiochemistry Division, Bhabha Atomic Research Center, Mumbai, India) ,  Liu Ming (Department of Physics, University of Michigan, Ann Arbor, MI, USA) ,  Liu Ming (Department of Nuclear Engineering, North Carolina State University, Raleigh, NC, USA) ,  Gidley David (Department of Physics, University of Michigan, Ann Arbor, MI, USA) ,  Lanford William A. (Department of Physics, University at Albany, Albany, NY, USA) ,  Hellgren Niklas (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA) ,  Hellgren Niklas (Department of Mathematics, Physics, and Statistics, Messiah College, Mechanicsburg, PA, USA) ,  Ege Canay (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA) ,  Mays Ebony (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA) ,  Bielefeld Jeff (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA) ,  King Sean W. (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR, USA)
資料名： Journal of Porous Materials  (Journal of Porous Materials)
巻： 27  号： 2  ページ： 565-586  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1100A  ISSN： 1380-2224  CODEN： JPMAFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質誘電体の多数の熱伝導率の研究が報告されているが,処理条件と結果としての原子構造の影響との相関は比較的少ない。これに関して,一連の有機ケイ酸塩(SiOCH)薄膜に対する熱伝導率に及ぼす成長条件,堆積後硬化,元素組成,原子構造およびナノ多孔性の影響を調べた。時間領域熱反射率(TDTR)を用いて熱伝導率を測定し,核反応分析(NRA),Rutherford後方散乱分光法(RBS),Fourier変換赤外(FTIR)分光法,核磁気共鳴(NMR),偏光解析法(EP),ポジトロニウム消滅寿命分光法(PALS)を用いて,成長条件と堆積後硬化の影響を調べた。質量密度と体積%多孔性に対する熱伝導率依存性を記述する解析モデルは,測定した熱伝導率を一般的に過大予測することが分かったが,FTIRにより測定した熱輸送ネットワーク密度のみを考慮すると,改善された一致が得られた。熱輸送結合の1/3のみを仮定するAshbyの半経験的関係は熱輸送方向に整列し,観測された傾向を合理的に記述することも分かった。しかし,熱伝導率の結果は,ナノメートルサイズの細孔による体積%の空隙率とフォノン散乱の両方の効果を考慮したSumirat(J Porous Mater 9:439(2006))によって提案されたモデルを通して最も良く記述された。ナノ多孔性の増加にもかかわらず,堆積後の硬化はさらに熱伝導率を増加させることが観察された。この効果は,硬化により生成したSi-O-Siネットワーク結合の増加に起因した。Copyright Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： NMR【磁気共鳴】 ,  赤外線 ,  *熱伝導率 ,  *薄膜 ,  ポジトロニウム ,  誘電体 ,  *ケイ酸塩 ,  ネットワーク ,  原子構造 ,  *非晶質 ,  FTIR分光法 ,  解析モデル
準シソーラス用語： フォノン散乱 ,  元素組成 ,  熱輸送 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (9件)： 熱伝導率 ,  シリケート ,  低k ,  ナノ ,  多孔性 ,  FTIR ,  NMR ,  TDTR ,  PALS

分類 (4件)： 化成処理  (WC08050J) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非晶質 ,  ナノ多孔性 ,  ケイ酸塩 ,  薄膜 ,  熱伝導率