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J-GLOBAL ID:202002215156762138   整理番号:20A1727868

InGaN発光ダイオードの界面,光学及び電気特性に及ぼす障壁中のH_2処理の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of H2 treatment in barrier on interface, optical and electrical properties of InGaN light emitting diodes
著者 (31件):
資料名:
巻: 145  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0600B  ISSN: 0749-6036  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,障壁成長中の異なるH_2フロー処理によるInGaN発光ダイオード(LED)の界面,光学的および電気的特性を調べた。H_2処理によって,量子井戸と障壁の間の界面は粗くなり,光ルミネセンス強度は減少する。600sccm(2.7%)H_2処理によるLEDの外部量子効率は,サンプルの中で最良の性能を有した。H_2で処理した場合,試料の前方および逆漏れ電流の両方が著しく減少した。サンプルの中で,600sccm(2.7%)のH_2流れが最良の性能を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (5件):
分類
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半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス  ,  発光素子  ,  13-15族化合物を含む半導体-半導体接合  ,  界面の電気的性質一般 

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