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J-GLOBAL ID：202002215484839864   整理番号：20A0283244

電子ホログラフィックディスプレイのためのナノインプリント技術により形成された誘電体遮蔽壁により分離された液晶の[数式:原文を参照]-ピッチ光変調の実験的研究【JST・京大機械翻訳】

Experimental study of [Formula : see text]-pitch light modulation of a liquid crystal separated by dielectric shield walls formed by nanoimprint technology for electronic holographic displays

著者 (5件)： Isomae Yoshitomo (Tohoku University, Graduate School of Engineering, Sendai, Miyagi, Japan) ,  Isomae Yoshitomo (Research Fellow of Japan Society for the Promotion of Science, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan) ,  Shibata Yosei (Tohoku University, Graduate School of Engineering, Sendai, Miyagi, Japan) ,  Ishinabe Takahiro (Tohoku University, Graduate School of Engineering, Sendai, Miyagi, Japan) ,  Fujikake Hideo (Tohoku University, Graduate School of Engineering, Sendai, Miyagi, Japan)
資料名： Optical Engineering  (Optical Engineering)
巻： 57  号： 6  ページ： 061624  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0577B  ISSN： 0091-3286  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 要約。1次元1μmピッチ光変調を,広視野角ホログラフィックディスプレイ用液晶(LC)素子を用いて実験的に実現した。LCデバイスの画素ピッチが1μmのとき,個々の画素駆動は,電場漏れと隣接画素からのLCの弾性力の侵入のために非常に困難である。これらの問題を克服するために,誘電体遮蔽壁構造を,画素間の誘電体壁を用いて提案した。誘電遮蔽壁構造を持つLCセルをナノインプリント技術を用いて作製した。LCセルにより生成した光変調と回折パターンの個別性を評価した。著者らの結果は,誘電体遮蔽壁構造が個々の1μmピッチ光変調と633nmの波長で19度の回折角を達成することを示した。ナノインプリント法により作製された誘電体壁下の余剰誘電体樹脂である誘電体樹脂の残りの層は,隣接する画素からの駆動電圧と電界漏れを増加させる傾向があるので,低減されなければならない。Copyright 2018 Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 波長 ,  一次元 ,  *光変調 ,  *液晶 ,  画素 ,  *誘電体 ,  空間光変調素子 ,  電場
準シソーラス用語： 駆動電圧 ,  回折パターン ,  液晶セル ,  広視野角 ,  *ナノインプリント ,  *ホログラフィックディスプレイ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 電子ホログラフィックディスプレイ ,  空間光変調器 ,  画素ピッチ ,  液晶 ,  誘電体遮蔽壁構造 ,  ナノインプリント

分類 (4件)： その他の光伝送素子  (BD06040S) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (10件)： 電子 ,  ホログラフィックディスプレイ ,  ナノインプリント ,  誘電体遮蔽壁 ,  液晶 ,  数式 ,  参照 ,  ピッチ ,  光変調 ,  実験的研究