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J-GLOBAL ID：202002215781800092   整理番号：20A1461305

改質グラフェン膜の光触媒性能に及ぼす熱処理プロセスの影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of Different Heat Treatment on Photocatalytic Performance of Modified Graphene Film

著者 (7件)： Zheng Yanyin (河北科技大学材料科学与工程学院,河北 石家庄 050000;中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京 100081) ,  Gu Baoshan (中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京,100081) ,  Sun Shiqing (河北科技大学材料科学与工程学院,河北 石家庄,050000) ,  Liu Yangyang (中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京,100081) ,  Liang Dongming (中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京,100081) ,  Yang Peiyan (中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京,100081) ,  Zhang Qifu (中国鋼研科技集団有限公司先進金属材料塗鍍国家工程実験室,北京,100081)
資料名： Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao  (Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao)
巻： 38  号： 2  ページ： 315-319  発行年： 2020年 
JST資料番号： C2657A  ISSN： 1673-2812  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 改良Hummers法により、5mg/mLの修飾グラフェン分散液を調製し、そして、ホモジネート法を用いて、ガラス基板上で修飾グラフェン薄膜を調製した。Ramanスペクトルを含む様々な手段を用いて、熱処理還元前後の薄膜の微視形態、成分及び構造に対してキャラクタリゼーションを行った。メチレンブルーをターゲット分解物とし、可視光照射下で異なる温度、真空還元と空気還元の二種類の熱処理還元方式が薄膜の光触媒性能に与える影響を研究した。結果は以下を示した。熱処理温度の上昇とともに,表面酸素含有官能基が徐々に除去され,EDSスペクトルにおけるC/O原子比率が徐々に増加し,RamanスペクトルにおけるID/IGが徐々に増強し,反応速度定数が徐々に減少し,改質グラフェン薄膜がメチレンブルーの光触媒分解能力が徐々に低下し,同じ温度において減少した。真空熱処理薄膜は,空気熱処理膜より光触媒分解能力が高かった。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Ramanスペクトル ,  *熱処理 ,  薄膜 ,  酸素 ,  *触媒活性 ,  スペクトル ,  反応速度定数 ,  *グラフェン ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニウム ,  硫黄複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： 官能基 ,  ガラス基板 ,  酸素原子 ,  光触媒分解 ,  熱処理温度 ,  可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： メチレンブルー

タイトルに関連する用語 (5件)： 改質 ,  グラフェン膜 ,  触媒性能 ,  熱処理プロセス ,  研究