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J-GLOBAL ID：202002215924273917   整理番号：20A1441221

高密度高エントロピーホウ化物セラミックのプロセシング【JST・京大機械翻訳】

Processing of dense high-entropy boride ceramics

著者 (3件)： Feng Lun (Department of Materials Science and Engineering, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO 65409, USA) ,  Fahrenholtz William G. (Department of Materials Science and Engineering, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO 65409, USA) ,  Hilmas Gregory E. (Department of Materials Science and Engineering, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO 65409, USA)
資料名： Journal of the European Ceramic Society  (Journal of the European Ceramic Society)
巻： 40  号： 12  ページ： 3815-3823  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0801B  ISSN： 0955-2219  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高相純度の高密度(Hf_0.2,Zr_0.2,Ti_0.2,Ta_0.2,Nb_0.2)B_2高エントロピーセラミックを,酸化物のボロ/炭素熱還元により合成した前駆体粉末の2段階放電プラズマ焼結により作製した。反応粉末は,低い酸素(0.404wt%)と炭素(0.034wt%)含有量とサブミクロン平均粒径(~0.3μm)を有した。粉体は反応混合物の過剰なB_4C含有量を最適化することにより合成され,2段階放電プラズマ焼結プロセスにより緻密化した。最終焼結温度が2000°Cから2200°Cに上昇すると,相対密度は98.9%から99.9%に増加した。得られたセラミックは公称単相(Hf,Zr,Ti,Ta,Nb)B_2であり,酸素含有量は0.004wt%,炭素は0.018wt%と低かった。平均粒径は2000°Cでの緻密化後2.3±1.2μmから2100°Cでの緻密化後4.7±1.8μmに増加し,一方,2200°Cでの焼結中に顕著な粒成長が生じた。本研究で得られた高い相対密度,低い酸素および炭素含有量,および微細な粒径は,高純度および微細粒径を有する合成前駆体粉末の使用および二段階合成-緻密化プロセスに起因した。これらは,高純度で微細な粒径を有する高密度高エントロピーホウ化物セラミックの最初の報告結果である。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *エントロピー ,  結晶成長 ,  最適化 ,  焼結 ,  *セラミック ,  粉体 ,  酸素 ,  炭素 ,  純度 ,  緻密化 ,  相対密度 ,  前駆体 ,  単相 ,  放電プラズマ焼結
準シソーラス用語： 焼結温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 超高温セラミックス ,  h ,  igh-エントロピーほう化物セラミックス ,  粉末合成 ,  t ,  ウォーステップスパークプラズマ焼結 ,  微細構造

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高密度 ,  エントロピー ,  ホウ化物 ,  セラミック ,  プロセシング