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J-GLOBAL ID：202002215997729413   整理番号：20A0272464

平坦および欠陥のあるRh(001)表面上へのイソシアン酸(HNCO)の吸着 純DFTおよびDFT+VDW計算【JST・京大機械翻訳】

Isocyanic acid (HNCO) adsorption on the flat and defective Rh(001) surfaces: Pure DFT and DFT+vdW calculations

著者 (9件)： Malonga Matanou C.L. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  Malonda-Boungou B.R. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  N’dollo M. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  Nkoua Ngavouka Maryse D. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  Nkoua Ngavouka Maryse D. (Unite de Recherche en Nanomateriaux et Nanotechnologies, Institut National de Recherche en Sciences Exactes et Naturelles (IRSEN), Brazzaville, Congo) ,  Moussounda P.S. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  Raji A.T. (College of Science, Engineering and Technology (CSET). University of South Africa (UNISA-Florida Campus), Corner of Christiaan de Wet Road & Pioneer Avenue, Florida, 1709, South Africa) ,  M’Passi-Mabiala B. (Groupe de Simulations Numeriques en Magnetisme et Catalyse, Faculte des Sciences et Techniques, Universite Marien Ngouabi, B.P. 69, Brazzaville, Congo) ,  M’Passi-Mabiala B. (Unite de Recherche en Nanomateriaux et Nanotechnologies, Institut National de Recherche en Sciences Exactes et Naturelles (IRSEN), Brazzaville, Congo)
資料名： Journal of Physics and Chemistry of Solids  (Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 138  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0202A  ISSN： 0022-3697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： van der Waals(vdW)力(vdW-DF)の効果を含む密度汎関数理論(DFT)計算を行い,欠陥のある完全なRh(001)表面へのイソシアナート(HNCO)の吸着を研究した。Rh(001)表面上のRh吸着原子を欠陥Rh(001)表面のモデルとして考察した。著者らの計算は,完全な表面では,HNCOが,vdW補正の包含の有無にかかわらず,ブリッジサイトに吸着することを好むことを示している。しかし,vdW力の包含は純粋なDFTから得られた値に対して吸着エネルギーの減少をもたらす。特に欠陥表面に関しては,完全表面上に吸着したHNCOと比較して,Rh吸着原子は吸着したHNCOのより大きな安定性をもたらした。また,HNCOと表面間の相互作用を,投影状態密度(PDOS)の観点から解析した。Nの2p軌道(すなわち,HNCO)とRh4dバンドの間に巨大な混成が起こり,観測された安定性の電子的起源を与えることが観察された。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着エネルギー ,  表面エネルギー ,  密度汎関数法 ,  状態密度 ,  *イソシアン酸 ,  相互作用 ,  *ロジウム ,  イソシアン酸塩 ,  *吸着
準シソーラス用語： 吸着原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： DFT ,  DFT+VDW-DF機能 ,  イソシアン酸吸着 ,  表面エネルギー ,  Rh(001)表面

分類 (2件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  表面の電子構造  (BM02080J)

タイトルに関連する用語 (7件)： 欠陥 ,  Rh ,  イソシアン酸 ,  HNCO ,  吸着 ,  DFT ,  計算