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J-GLOBAL ID：202002216022789504   整理番号：20A0787451

非晶質ケイ素摩擦:第一原理研究【JST・京大機械翻訳】

Amorphous silicon triboride: A first principles study

著者 (2件)： Cetin Karacaoglan Ayseguel OEzlem (Materials Science and Nanotechnology Engineering and Materials Science&Mechanical Engineering Program, Abdullah Guel University, Kayseri, Turkey) ,  Durandurdu Murat (Materials Science and Nanotechnology Engineering and Materials Science&Mechanical Engineering Program, Abdullah Guel University, Kayseri, Turkey)
資料名： Journal of Non-Crystalline Solids  (Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 536  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0642A  ISSN： 0022-3093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ab initio分子動力学シミュレーションを用いて,非晶質三ホウ化ケイ素(a-SiB_3)ネットワークを生成し,その原子構造,電子的特徴および機械的性質を結晶のそれらと比較した。a-SiB_3中のBとSi原子の平均配位数は5.8と4.6で,対応して結晶中の6.0(B原子)と5.0(Si原子)に近い。注意深い研究は,SiB_3の両方の相において,B原子の周りの部分的構造類似性を明らかにしたが,Si原子の周りではそうではなかった。B_12,B_11SiおよびB_10分子の存在は,a-SiB_3において見られた。しかし,最後の2つの分子は結晶中に存在しない。a-SiB_3は半導体材料である。規則化及び無秩序構造の体積弾性率はそれぞれ151GPa及び131GPaと予測された。a-SiB_3のVickers硬度は~13~15GPaと計算され,結晶に対して推定された~20~25GPa以下であった。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 機械的性質 ,  電子構造 ,  計算機シミュレーション ,  ネットワーク ,  *ケイ素 ,  半導体材料 ,  原子構造 ,  *非晶質 ,  ホウ化処理 ,  配位数 ,  第一原理 ,  *アモルファスシリコン
準シソーラス用語： 体積弾性率 ,  秩序構造 ,  分子動力学シミュレーション ,  Vickers硬さ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： アモルファス ,  シリコンの摩擦 ,  電子構造 ,  機械的性質

分類 (2件)： その他の非晶質の構造  (BK04040Z) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 非晶質ケイ素 ,  摩擦 ,  第一原理 ,  研究