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J-GLOBAL ID：202002216997496638   整理番号：20A1921014

単層二硫化モリブデンの機械的性質の操作:Kirigamiとヘテロ構造に基づくアプローチ【JST・京大機械翻訳】

Manipulation of mechanical properties of monolayer molybdenum disulfide: Kirigami and hetero-structure based approach

著者 (3件)： Kumar Sunil (CSIR-National Metallurgical Laboratory, Jamshedpur, 831007, India) ,  Mishra Trilochan (CSIR-National Metallurgical Laboratory, Jamshedpur, 831007, India) ,  Mahata Avik (School of Engineering, Brown University, Providence, RI, 02912, United States)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 252  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二硫化モリブデン(MoS_2)の2次元単分子層構造は,それらのユニークな機械的,物理的および電子的特性のため,先進フレキシブル電子デバイスで広く使用されている。MoS_2の主な欠点は限られた機械的歪であり,柔軟で伸縮可能なデバイスへの応用を制限する。したがって,環境状況と実際の応用の複雑性に依存して,MoS_2単層の機械的挙動を修正するための様々な方法を開発する必要がある。本研究では,MoS_2の機械的挙動の操作のためにKirigamiとヘテロ構造アプローチを組み込んだ。Kirigamiは,紙切断の古代の日本の芸術である。円形/正方形/矩形Kirigamiパターンを有する単層MoS_2を,分子動力学シミュレーションを用いて単軸引張荷重の下でシミュレートした。伸張性(機械的歪)は,単軸引張変形中のKirigamiパターンの形状/サイズ及び位置によって顕著に増大することを観測した。しかし,MoS_2の強度(機械的応力とYoung率)は,グラフェンとのヘテロ構造の生成によって強化できる。荷重適用中の応力/エネルギー分布,Young率,温度,および歪速度を調べるために,多数のシミュレーションを行った。著者等の結果は,フレキシブルデバイスへの応用に向けた機械的歪と歪の強化に関連する広範な情報を提供すると信じる。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Young率 ,  *機械的性質 ,  単分子層 ,  エネルギー分布 ,  歪速度 ,  二次元 ,  引張変形 ,  一軸 ,  引張荷重 ,  グラフェン
準シソーラス用語： *二硫化モリブデン ,  *ヘテロ構造 ,  電子素子 ,  分子動力学シミュレーション ,  フレキシブルデバイス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： MoS_2 ,  グラフェン ,  2D材料 ,  LAMMPS

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  高分子固体の力学的性質  (CG02023D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 単層 ,  硫化モリブデン ,  機械的性質 ,  ヘテロ構造