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J-GLOBAL ID：202002217346400685   整理番号：20A1276864

オルトアミノベンズアルデヒドの無触媒光脱カルボニル化【JST・京大機械翻訳】

Catalyst-free photodecarbonylation of ortho-amino benzaldehyde

著者 (5件)： Zhou Jingwei (Institute of Clinical Pharmacology, Science and Technology Innovation Center, Guangzhou University of Chinese Medicine, Guangzhou 510405, Guangdong, China. [e-mail]) ,  Li Lamei ,  Wang Songping ,  Yan Ming ,  Wei Wentao
資料名： Green Chemistry  (Green Chemistry)
巻： 22  号： 11  ページ： 3421-3426  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2066A  ISSN： 1463-9262  CODEN： GRCHFJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルデヒド基(-CHO)の脱カルボニル化は遷移金属触媒によって仲介されるだけでなく,厳しい反応条件(高温と長い反応時間)を必要とするというコンセンサスがほとんどある。本研究では,「適合選択性に基づく」設計戦略に触発されて,このコンセンサスを破り,アルデヒド基の無触媒光脱カルボニル化を発見した。3級アミンをアルデヒド基のオルト位に導入することにより,可視光照射により脱カルボニル化が容易に達成できることを明らかにした。三級アミンの多様な配列は温和な条件下での光脱カルボニル化により許容される。さらに,機構の(QM)計算と良く設計された特別な基質に関する実験は,著者らの光脱カルボニル化がアルデヒド基と第三アミンの立体配座特異性に依存し,異常な[1,4]-Hシフトとそれに続く[1,3]-Hシフトを通して起こることを明らかにした。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高温 ,  立体配座 ,  反応時間 ,  基質 ,  *脱カルボニル ,  ホルミル基 ,  遷移金属触媒 ,  第三アミン
準シソーラス用語： 反応条件 ,  特異性 ,  可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

タイトルに関連する用語 (2件)： 触媒 ,  脱カルボニル化