文献
J-GLOBAL ID:202002218148910114   整理番号:20A2381552

90°ドメイン形成によって誘発された刃状転位を介したPbTiO3エピタキシャル薄膜とLaドープSrTiO3(001)基板間の界面反応

Interface reaction between PbTiO3 epitaxial thin films and La-doped SrTiO3 (001) substrates through edge dislocations induced by 90° domain formation
著者 (4件):
資料名:
巻: 128  号:ページ: 492-500(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: U0409A  ISSN: 1348-6535  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
化学溶液堆積法によりLaドープSrTiO3(001)(La:STO)単結晶基板上に成長させた種々の厚さのPbTiO3(PTO)薄膜間の界面構造変化を,(走査型)透過型電子顕微鏡(S)TEMにより解明した。膜はペロブスカイト単相と基板とのキューブオンキューブ配向関係から構成されていた。STEM画像は,双晶変形が膜と基板とのコヒーレント界面から離れた刃状転位の核形成に先行することを明らかにした。基板へのPbイオンの拡散は,界面から離れた刃状転位によっても観測された。刃状転位は基板内に下向きに上昇し,Pbイオンがさらに拡散して膜厚が増加した。この現象は,非ドープSTO基板に堆積したPTO膜では観察されなかった。したがって,La:STO基板の格子欠陥,90°ドメイン形成により誘起された不整合転位,およびPbとSrイオン間の類似のイオン半径は,膜と基板の間の構成元素の局所的な相互拡散を促進するように見えた。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  その他の無機化合物の格子欠陥 

前のページに戻る